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X射線光電子能譜技術的用途主要體現在哪些方面?

來源:賽默飛世爾科技分子光譜   2022年04月25日 15:54  
X射線光電子能譜 (XPS),也被稱為化學分析電子能譜 (ESCA),是分析材料表面化學性質的一項技術。具有靈敏度高、分辨率高、元素分析全(除H和He)、為非破壞性分析、深度剖析、小于10 nm薄膜分析(角分辨)、元素化學態分布(XPS成像技術)等特點。

X射線光電子能譜用途:

1、可定性分析,根據所測得譜的位置和形狀來得到有關樣品的組分、化學態、表面吸附、表面價電子結構、原子和分子的化學結構、化學鍵合情況等信息。

2、可定量分析,以能譜中各峰強度的比值為基礎進行分析,把所測到的信號強度轉變成元素的含量,即將譜峰面積轉變成相應元素的含量。

3、可深度剖析,由于樣品本身的層狀結構如氧化、鈍化等原因導致樣品在深度方向上化學狀態的不同。通過利用氬離子槍對樣品表面進行氬離子濺射剝離,控制合適的濺射強度及濺射時間,將樣品表面刻蝕一定深度,然后進行取譜分析。

4、可角分辨電子能譜分析,改變樣品表面與入射光束間的角度,即可改變入射光的檢測深度,使得檢測深度變淺,這樣來自最表層的光電子信號相對較深層的會大大增強。利用這一特性,可以對超薄樣品膜表面的化學信息進行有效地檢測,從而研究超薄樣品化學成分的縱向分布。





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