爆破片裝置：由爆破片（或爆破片組件）和夾持器（或支承圈）等零部件組成的非重閉式壓力泄放裝置。在設定的爆破溫度下，爆破片兩側(cè)壓力差達到預定值時，爆破片即刻動作（破裂或脫落），泄放壓力介質(zhì)。

爆破片：在爆破片裝置中，因超壓而迅速動作的壓力敏感元件。

爆破片組件：爆破片、背壓托架、加強環(huán)、保護膜或密封膜等兩種或兩種以上零件組合成的組件，又稱為組合式爆破片。

夾持器：爆破片裝置中，具有定位、支撐、密封等功能，并且能夠保證爆破片準確動作的獨立夾緊部件。

支撐圈：用機械方式或焊接方式固定爆破位置，并具有支撐爆破片受力、保證爆破片準確動作的功能，但不能獨立起到夾緊作用的環(huán)圈狀零件。

加強環(huán)：組合式爆破片中，與爆破片邊緣緊密貼（結）合，起到增強其邊緣剛度作用的環(huán)圈狀零件。

泄放接管：連接于爆破片裝置的泄放側(cè)，用于爆破片裝置泄壓后將壓力介質(zhì)引至地點的接管。

背壓托架：在組合式爆破片裝置中，用以防止因系統(tǒng)在背壓工況時，引發(fā)爆破片意外破壞的支撐架（或托架）。

張開形背壓托架：爆破片爆破時發(fā)生破裂的背壓托架。

非張開形背壓托架：爆破片爆破時不發(fā)生破裂的背壓托架。

背壓：當爆破片裝置泄放側(cè)壓強高于入口側(cè)（或入口側(cè)呈負壓工況）時的泄壓側(cè)壓強。爆破片與托架等零部件設計中，應當考慮背壓工況時，爆破片裝置入口側(cè)與泄壓側(cè)之間壓強之差的影響。

密封膜：在組合式爆破片裝置中，對開縫型爆破片起密封作用的薄膜。

涂層：通過噴涂的方法，在爆破片或夾持器等零部件的表面所涂覆的一定厚度的金屬或非金屬層。

防腐保護膜：爆破片裝置受腐蝕性介質(zhì)影響時，為了防止腐蝕破壞而附加的金屬或非金屬薄膜。

鍍層：采用電鍍的方法，在爆破片或夾持器等零部件表面電鍍的一定厚度的金屬層。

溫度屏蔽裝置：爆破片裝置中，用來保護爆破片避免直接承受過高或過低溫度的裝置。

爆破壓力：在設定的爆破溫度下，爆破片動作時兩側(cè)的壓力差值。

設計爆破壓力：在特種設備設計時，根據(jù)設備的工作條件和相關安全技術規(guī)范設定的，在設計爆破溫度下，爆破片應當具備的動作壓力值。

大（小）爆破壓力：設計爆破壓力與制造范圍和爆破壓力允差的代數(shù)和。

試驗爆破壓力：爆破片裝置進行爆破試驗時，實測的爆破壓力值。

標定爆破壓力：標注在爆破片銘牌上的，在規(guī)定的設計（或許可試驗）爆破溫度下，同一批次爆破片抽樣爆破試驗時，實測爆破壓力的算術平均值。

爆破溫度：爆破片達到爆破壓力時，爆破片膜片的溫度。

制造范圍：一個批次爆破片的標定爆破壓力相對于設計爆破壓力允許的偏差范圍。

爆破壓力允差：試驗爆破壓力相對于標定爆破壓力的大允許偏差。

泄放面積：爆破片裝置用于泄放壓力介質(zhì)的小橫截面的流通面積。

設計泄放面積：在設計流通面積時，考慮到爆破片爆破后張開程度、殘留碎片（含背壓托架及其附件的殘片等）對爆破片泄放能力影響；還應當考慮到在超音速泄放時，由于高速氣流形成的“三障”（音障、熱障與黑障）、泄放背壓、高溫、氣體電離、未燃泄放介質(zhì)二次爆炸、回火等因素對于爆破片泄放能力的影響，所確定的泄放面積。

安全泄放面積：將設計泄放面積乘以大于1的系數(shù)的泄放面積值。

泄放量：爆破片裝置爆破后，通過泄放面積能夠泄放壓力介質(zhì)的流量，又稱爆破片裝置泄放能力。

理論泄放量：按照爆破片裝置凈泄放面積理想噴管的計算泄放量。

實測泄放量：在試驗裝置上，在泄放壓力下測量的爆破片泄放量。

安全泄放量：在系統(tǒng)出現(xiàn)緊急超壓情況時，爆破片裝置可通過的介質(zhì)流量。

批次：具有相同的類別、型式、規(guī)格、標定爆破壓力和爆破溫度，并且材料（牌號、爐批號、規(guī)格）以及制造工藝相同，連續(xù)生產(chǎn)的爆破片裝置為一個批次。

流阻系數(shù)：由試驗裝置測得的壓力介質(zhì)通過爆破片裝置所損失的速度頭（速度平方除以重力加速度的二分之一）表示的無量綱項。

疲勞壽命：經(jīng)試驗裝置檢測，所取得的爆破片裝置在工作壓力與常壓范圍內(nèi)，按照規(guī)定的頻率變化導致爆破片裝置破壞的循環(huán)次數(shù)。

型式試驗：對爆破片裝置的樣品所實施的檢驗與試驗，以驗證爆破片裝置的安全性能符合相關安全技術規(guī)范、標準的規(guī)定。