對于傳統(tǒng)的激光器制造商而言，光束質(zhì)量分析已經(jīng)成為標準技術。激光束的品質(zhì)由以下參數(shù)定義：衍射限倍數(shù)因子M2，或者它的倒數(shù)K因子。
M2或K因子給出了激光光束聚焦能力的理論測量方法，這對評價不同應用領域的光束好壞非常重要。M2因子其物理實質(zhì)是激光光束與標準基模高斯光束（TEM00）進行比較，反映實際激光光束與基模高斯光束的接近程度。理想的M2=1,實際測量的M2越趨近1，說明激光的聚焦能力越強。

以色列Ophir公司收購了美國spiricon公司（面陣式光束質(zhì)量分析儀）和美國photon公司（狹縫掃描式光束質(zhì)量分析儀），為激光M2分析提供了多種不同的儀器，可以只對不同的激光器。目前業(yè)內(nèi)的絕大多數(shù)激光器，Ophir都可以提供相應的解決方案。

M2測量原理圖示

Spiricon公司M2-200s自動M2分析儀具有如下特點（面陣式光束質(zhì)量分析儀）
1.測量速度快，2分鐘內(nèi)完成M2測量；
2.*符合ISO測量標準；
3.采用的Ultracal基線校準技術，可獲得zui為的測量數(shù)據(jù)；
4.提供自動衰減調(diào)節(jié)，使測量更加方便；
5.適用于連續(xù)和脈沖激光測量；
6.采用折疊式鏡腔設計，保證儀器體積小巧，使用方便.

Spiricon公司推出的M2-200s自動M2分析儀是*一款符合ISO標準的M2測量設備，保持著在該領域的。測量過程中，固定的透鏡和高速的自動光學導軌使得相機可以快速的采集到從近場到遠場多個位置的激光光斑，測量、傳輸以及激光功率衰減全部由軟件自動控制。

M2-200s在工作過程中造束腰透鏡和相機位置固定，通過兩片反光鏡在光學導軌上的自動移動，相機就可以的捕捉到從近場到遠場不同位置的激光光斑，再通過軟件進行數(shù)據(jù)分析與計算，從而得到M2值、發(fā)散角、束腰大小等參數(shù)。

Spiricon采用了的Ultracal基線校準技術，從而可以有效去除環(huán)境噪聲，得到zui為準確的數(shù)據(jù)。

Photon公司的NanoModeScan，具有以下特點（狹縫掃描式光束質(zhì)量分析儀）：
1.可對大功率激光光束進行M2分析，而不需太多的衰減設備；
2.全自動分析；
3.配置NanoScan 2 USB接口探頭和NanoScan V2光束分析軟件，在測量M2的同時可以對光斑進行光斑大小、峰值中心、幾何中心等參數(shù)進行分析；
4.配置導軌、200mm和400mm焦距束腰生成鏡.