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渦流測(cè)厚儀是利用一個(gè)帶有高頻線圈的探頭來(lái)產(chǎn)生高頻磁場(chǎng)，使置于探頭下方的待測(cè)試樣內(nèi)產(chǎn)生渦流。這種渦流的振幅和相位是探頭和待測(cè)試樣之間的非導(dǎo)電鍍層厚度的函數(shù)。鍍層厚度可從測(cè)量?jī)x器上直接讀得。
本方法可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電鍍層（如鋁陽(yáng)極氧化膜的測(cè)厚）、非導(dǎo)體上單層金屬鍍層，以及非磁性基體與鍍層間電導(dǎo)率相差較大的鍍（涂）層厚度。影響測(cè)量精度的因素與磁性法相似。渦流測(cè)厚除了受基體電導(dǎo)率、基體厚度、鍍層厚度影響外，還受試樣的曲率、表面粗糙度、邊緣效應(yīng)和加在探頭上壓力大小的影響。測(cè)試誤差在10%以內(nèi)。厚度小于3μm的鍍層測(cè)量精度偏低。
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