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原子發射光譜法測定高純鎳粉中Cu元素含量

閱讀:234      發布時間:2019-03-05
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高純鎳粉作為一種重要的工業原材料,具有特殊的磁性、熱阻、化學活性,廣泛應用于制備高熔點高硬度材料、催化劑、貯氫材料、光吸收材料等金屬材料,在原子能工業、軍事工業中發揮了不可替代作用[1]。高純鎳粉作為研制相關金屬材料的原料,其雜質含量與后續研制生產的金屬材料質量密切相關,因此,研究開發一種快速準確的高純鎳粉中雜質含量分析測試方法具有重要的現實意義。

 

目前,測定鎳中雜質元素的現行國家標準方法(GB/T 8647 鎳化學分析方法)主要采用分光光度法和原子吸收光譜法,這兩種方法適用于單元素逐一測定,測試效率并不高,電感耦合等離子體原子發射光譜法(inductively coupled plasma atomic emission spectrometry,珀金埃爾默ICP-OES)分析技術相對快捷,已廣泛應用于分析測試領域[2~3],美國 ASTM 標準正是采用ICP-AES 技術測定了鎳合金中合金元素和雜質元素含量(E2594-09 Standard Test Method forAnalysis of Nickel Alloy by Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry),但并未測定 Fe 元素含量。


 

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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