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單顆粒ICP-MS測定鐵納米粒子:利用通用池技術消除光譜干擾

閱讀:244      發布時間:2017-07-21
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 隨著納米顆粒興趣的增加,各種測試方法正被應用。采用單顆粒模式電感耦合等離子體質譜法(SP-ICP-MS)分析金屬納米粒子成為有前途的技術之一。由于其高靈敏度、易用性和分析速度快等特點,ICP-MS是一種理想的技術,用于檢測納米顆粒的特性:無機成分、濃度、尺寸大小、粒度分布和聚集等。ICP-MS分析挑戰之一為干擾導致錯誤的分析結果。然而,這并非是一個問題,因為迄今為止大多數SP-ICP-MS應用均沒有涉及到基體干擾或常規光譜干擾問題。例如,金和銀納米粒子在工業中應用較廣,未受到常規干擾。另外,大多數納米顆粒存在簡單基體中,該基體幾乎不產生干擾。隨著納米技術領域的拓展,分析需求增加,尤其是需要測定納米顆粒中受干擾的元素,如擴展為其它受干擾的金屬納米粒子,如鈦,鉻,鋅或硅。例如,由于零價鐵納米(ZVI)顆粒具有*的化學特性和相對大的比表面積,使之更廣泛應用于環境修復項目中。由于他們*的性質,ZVI納米粒子具有以下作用:去除有機溶劑中氯,轉化肥料中有害化合物,降解殺蟲劑和固定金屬。然而,為監測ZVI顆粒,鐵需被測定,因為存在基于等離子體產生的信號ArO+對同樣質量數(56)鐵的高豐度同位素(56Fe+豐度91.72%)形成嚴重干擾。消除這種干擾的有效方式是采用氨氣作為反應氣的反應模式ICP-MS。至今為止,已有的大多數SP-ICP-MS報道聚焦于無干擾的納米粒子,而這種反應模式SP-ICP-MS還未被廣泛使用。本工作將專注于證明在反應模式SP-ICP-MS下,NexION通用池技術應用于測定納米粒子。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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