任何金屬雜質(zhì)的存在都將對IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響。在半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行其他半導(dǎo)體材料分析時(shí)也常常會(huì)使用硝酸，因此使用的硝酸需要具有高純度和高質(zhì)量。由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制*的分析工具。然而，在傳統(tǒng)的等離子體條件下，往往存在氬離子與基質(zhì)成分結(jié)合產(chǎn)生多原子干擾的情況。使用多極和非反應(yīng)氣體的碰撞池已被證明可以有效減少多原子干擾。但是這種方法必須使用動(dòng)能歧視去除反應(yīng)產(chǎn)生的副產(chǎn)物，這將會(huì)造成靈敏度的下降。NexION 300 ICP-MS配置的通用池技術(shù)同時(shí)提供了碰撞模式、反應(yīng)模式和標(biāo)準(zhǔn)模式三種測定模式，因此儀器操作人員可以根據(jù)實(shí)際測定的要求選擇適合的模式，并能在一個(gè)分析方法中進(jìn)行不同模式的切換。本應(yīng)用報(bào)告證明了NexION 300ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)NO3中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測定的能力。這一實(shí)驗(yàn)在一次測定中同時(shí)使用標(biāo)準(zhǔn)模式和反應(yīng)模式可以得到好的分析結(jié)果。
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