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光學鍍膜的工藝

閱讀:2086        發(fā)布時間:2021-4-6

  
光學鍍膜的工藝  
光學鍍膜在高真空涂布室中實現。傳統的光學鍍膜涂層工藝需要提高基材溫度(通常約為300°C);而更*的技術,例如離子輔助沉積(IAD),則可以在室溫下進行。IAD工藝不僅可以生產比常規(guī)涂層工藝具有更好物理性能的薄膜,而且還可以應用于塑料制成的基材。  
光學鍍膜  
電子束蒸發(fā),IAD沉積,光控制,加熱器控制,真空控制和自動過程控制的控制模塊都在涂布機的前面板上。光學鍍膜兩個電子槍源位于基板的兩側,被環(huán)形蓋包圍并被擋板覆蓋。離子源在中間,而光控窗在離子源的前面。  
光學鍍膜  
光學鍍膜使用行星系統是確保蒸發(fā)材料均勻分布在固定裝置區(qū)域的方法。固定裝置繞公共軸旋轉,同時繞其自身軸旋轉。光學鍍膜燈光控制和晶體控制位于行星驅動機構的中間,而驅動軸則屏蔽了晶體控制。背面的大開口導致額外的高真空泵。基板加熱系統由4個石英燈組成,在真空室的每一側有兩個。  
光學鍍膜  
柱面鏡加工廠家、柱面鏡廠家、球面鏡廠家告訴你,光學鍍膜沉積的傳統方法是熱蒸發(fā),或使用電阻加熱蒸發(fā)源或電子束蒸發(fā)源。光學鍍膜的特性主要取決于沉積原子的能量。離子源將離子束從離子槍引導到基板表面和生長的光學鍍膜,以改善傳統電子束蒸發(fā)的光學鍍膜特性。  
柱面鏡加工廠家、柱面鏡廠家、球面鏡廠家告訴你光學鍍膜的性質,例如折射率,吸收率和激光損傷閾值,主要取決于膜的微觀結構。光學鍍膜材料,殘余氣壓和基材溫度都可能影響薄膜的微觀結構。如果在基材表面上氣相沉積的原子的遷移率較低,則光學鍍膜將包含微孔。當薄膜暴露于潮濕空氣中時,這些孔逐漸被水蒸氣填充

上海卷柔新技術光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產光學儀器及其零配件 的高科技企業(yè),公司成立2005年,專業(yè)的光電鍍膜公司,公司產品主要涉及光學儀器及其零配件的研發(fā)和加工;光學透鏡、反射鏡、棱鏡等光學鍍膜產品的開發(fā)和生產,為客戶提供上等的產品和服務。采用德國薄膜制備工藝,形成了一套具有嚴格工藝標準的閉環(huán)式流程技術制備體系,能夠制備各種超高性能光學薄膜,包括紅外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜,應用領域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導、面部識別、VR/AR應用,博物館,低反射櫥窗玻璃,畫框等。

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