臨汾50升高硼硅玻璃反應(yīng)釜　　在說明蒸發(fā)條件時(shí)，往往也用相對蒸發(fā)力場來表示。實(shí)際工作中，蒸發(fā)力場的數(shù)據(jù)（data)是指其平均值（Theeragevalue)。即是指在蒸發(fā)溶液中點(diǎn)處顆粒所受的蒸發(fā)力場。蒸發(fā)時(shí)間蒸發(fā)時(shí)間依據(jù)(yījù)蒸發(fā)方法的不同而有所差別。

用途特點(diǎn)：雙層玻璃反應(yīng)釜內(nèi)層容器放置反應(yīng)物料，同時(shí)可抽真空和調(diào)速攪拌，夾層可導(dǎo)入冷凍液、水和高溫液對物料進(jìn)行升溫和冷卻。用于化學(xué)、精細(xì)化工、生物制藥新材料合成等實(shí)驗(yàn)、中試及生產(chǎn)。產(chǎn)品可與循環(huán)水式多用真空泵、隔膜真空泵、低溫循環(huán)（真空）泵、循環(huán)冷卻器、恒溫循環(huán)器、低溫冷卻液循環(huán)泵、密閉制冷加熱循環(huán)裝置（又名：高低溫循環(huán)裝置）等配套組成系統(tǒng)裝置。

　　(2)風(fēng)吹損失水量對于有除水器的機(jī)械通風(fēng)冷卻塔，風(fēng)吹損失量為Qw=(0.2%～0.3%)Q(2)(3)排污和滲漏損失該損失是比較機(jī)動(dòng)的一項(xiàng)，它與循環(huán)冷卻水質(zhì)要求、處理方法、補(bǔ)充水的水質(zhì)及循環(huán)水的濃縮倍數(shù)有關(guān).濃縮倍數(shù)的計(jì)算公式:N=Cr/。臨汾50升高硼硅玻璃反應(yīng)釜　　但第二效蒸發(fā)需要的熱量是由一效蒸發(fā)出的溶劑提供，有效加熱需要的熱量，節(jié)約能耗。第二章：型規(guī)格備注：蒸發(fā)，蒸發(fā)量大約是水蒸發(fā)量的3~5倍。該套設(shè)備的前提是用戶**低蒸發(fā)溫度要45℃，一效加熱的溫度在55℃～60℃，二效蒸發(fā)的溫度在40℃～45℃，單套每小時(shí)蒸發(fā)水量500~3000L/hr。
高硼硅玻璃材質(zhì)，有優(yōu)良物理、化學(xué)性能
可在高溫（300℃）至低溫（-120℃）的大溫區(qū)使用
可在常壓及真空條件下工作，靜止?fàn)顟B(tài)下真空度可達(dá)-0.095MPa以下
數(shù)字顯示攪拌速度，變頻、恒速攪拌系統(tǒng)，工作平穩(wěn)
單層或雙層PTFE攪拌槳（攪拌葉），耐腐蝕
無死腔設(shè)計(jì)的防腐放料閥門
夾層的制冷或加熱溶液在反應(yīng)完畢后，能排除，不積液
整體結(jié)構(gòu)新穎、實(shí)用、美觀

　　對于由形成的乳化液，可將乳化部分分出，裝入一個(gè)細(xì)長的筒形容器中。向液面上均勻地篩撒充分脫水的鈉粉末，此時(shí)，鈉一邊吸水，一邊下沉，在容器底部可形成水溶液層。脂質(zhì)體及其制備方法的選擇1.脂質(zhì)體概述1965年，英國學(xué)者Bangham和Standish將磷脂分散在水中進(jìn)行電鏡觀察時(shí)發(fā)現(xiàn)了脂質(zhì)體。
雙層玻璃反應(yīng)釜S212-1L-2L
型號(hào) S212-1L
物料容量（L） 1
夾套容量（ML） 300
瓶口數(shù) 4（攪拌口1只液體加料口1只測溫口1只冷凝1只)
功率（W） 90W低速增力電機(jī)
轉(zhuǎn)速（rpm） 50-680
扭矩（N.cm） 252
變頻調(diào)速 標(biāo)配
PTFE組合密封（陶瓷軸承） 標(biāo)配
轉(zhuǎn)速數(shù)顯 標(biāo)配
溫度數(shù)顯 標(biāo)配
測溫管 標(biāo)配19#磨口
恒壓滴液漏斗 標(biāo)配24#磨口500MLL
冷凝器 標(biāo)配 24#磨口
聚四氟乙烯攪拌棒 錨式或螺旋槳式
新型下放料 標(biāo)配（無積液、無滲漏）
電源（V/HZ） 220/50

　　4.1.3加熱：本儀器配用專門設(shè)計(jì)的升降水浴鍋，必須先加水后通電，溫控刻度0～99℃可供。由于熱慣性的存在，實(shí)際水溫要比設(shè)定溫度上沖2℃左右，使用時(shí)可修正設(shè)定值，如需要水溫40℃，可把溫控器設(shè)定在38℃，水溫請用溫度計(jì)直接測量，瓶浸入水中1/3～1/2。　　2.電源:220V50Hz，電源功率應(yīng)大于儀器的總功率，電源必須有良好"接地"裝置;2.避免酸堿類的物質(zhì)進(jìn)入槽內(nèi)腐蝕盤。9.儀器應(yīng)做好經(jīng)常性清潔工作，*不用，清空槽內(nèi)的介質(zhì)，并且擦拭干凈，保持工作臺(tái)面和操作面板的整潔。