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行業(yè)產(chǎn)品
二次離子質(zhì)譜法(Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS)是一種高靈敏度的表面分析技術(shù),通過高能一次離子束轟擊樣品表面,使表面原子或分子濺射并電離,生成二次離子,再利用質(zhì)譜儀分析這些二次離子的質(zhì)荷比,從而獲得樣品表面的元素組成、同位素分布及深度分布信息。
離子束轟擊
使用高能離子束(如Cs?、O??、Ar?等)轟擊樣品表面,離子與表面原子發(fā)生碰撞,導(dǎo)致表面原子或分子濺射。
二次離子生成
濺射出的原子或分子在電場(chǎng)作用下加速,部分被電離形成二次離子(正離子或負(fù)離子)。
質(zhì)譜分析
二次離子被引入質(zhì)譜儀,通過磁場(chǎng)或電場(chǎng)按質(zhì)荷比(m/z)分離,最終由探測(cè)器檢測(cè)并生成質(zhì)譜圖。
高靈敏度
檢測(cè)限可達(dá)ppm(百萬分之一)至ppb(十億分之一)級(jí)別。
可檢測(cè)極低濃度的元素和同位素。
高空間分辨率
空間分辨率可達(dá)亞微米級(jí),適用于微區(qū)分析。
深度分析能力
通過逐層濺射,可實(shí)現(xiàn)納米級(jí)深度的成分分析,揭示材料的三維結(jié)構(gòu)。
多元素分析能力
可同時(shí)分析樣品中多種元素的含量和分布。
半導(dǎo)體工業(yè)
檢測(cè)芯片中的摻雜濃度、雜質(zhì)污染及多層結(jié)構(gòu)深度剖析。
材料科學(xué)
研究材料成分、雜質(zhì)分布、界面結(jié)構(gòu)及薄膜均勻性。
地質(zhì)學(xué)
分析巖石、礦物中的微量元素及其同位素組成,揭示地球化學(xué)過程。
生物醫(yī)學(xué)
研究生物樣品的元素組成、藥物代謝產(chǎn)物分布及組織中的痕量元素含量。
環(huán)境科學(xué)
監(jiān)測(cè)大氣顆粒物、水體沉積物中的污染物種類和濃度。
動(dòng)態(tài)SIMS(D-SIMS)
使用高能量、高電流離子束,適合深度剖析,但表面分子信息保留較少。
靜態(tài)SIMS(S-SIMS)
使用低能量、低電流離子束,適合表面化學(xué)狀態(tài)分析,分辨率高,適用于有機(jī)涂層和生物樣品。
成像型SIMS
結(jié)合掃描技術(shù),實(shí)現(xiàn)樣品表面元素的二維或三維成像。
優(yōu)點(diǎn)
高靈敏度、高分辨率、深度分析能力。
可分析同位素比值,適用于多種材料。
缺點(diǎn)
樣品表面可能受損(濺射過程)。
分析速度較慢,數(shù)據(jù)處理復(fù)雜。
儀器成本高,操作復(fù)雜。
技術(shù)進(jìn)步:提高分辨率、靈敏度和自動(dòng)化程度,減少樣品損傷。
應(yīng)用拓展:在生物醫(yī)藥、環(huán)境監(jiān)測(cè)、納米材料等領(lǐng)域的應(yīng)用將進(jìn)一步深化。
多技術(shù)聯(lián)用:與光譜學(xué)、成像技術(shù)等結(jié)合,實(shí)現(xiàn)多參數(shù)、高通量分析。
二次離子質(zhì)譜法(SIMS)憑借其高靈敏度、高分辨率和深度分析能力,已成為材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、地質(zhì)學(xué)等領(lǐng)域的分析工具。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展,SIMS將在更多領(lǐng)域展現(xiàn)其應(yīng)用潛力。
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