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產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
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質量流量控制器是一種被使用在半導體,液晶面板以及其他電子設備制造工程當中,控制氣體或液體質量流量的高精密儀器。
LINTEC琳得科 質量流量控制器 MM-3202L-TN
LINTEC琳得科 質量流量控制器 MM-3202L-TN
質量流量控制器(Mass Flow Controller,MFC)是一種用于精確測量和控制氣體或液體質量流量的關鍵工業設備。
質量流量控制器主要由質流傳感器、分流器、制閥以及控制回路所構成。當氣體流入后,部分的氣體從分流器導入質流傳感器,由質流傳感器所輸出的流量信號比對設定的流量信號,反饋調節控制閥的開度,以此進行流量的控制。
核心技術架構
傳感系統:
熱式傳感:基于King's Law原理,采用毛細管式或旁路式設計,溫度分辨率達0.01℃
壓差式傳感:基于層流元件和壓差傳感器組合,適用于大流量范圍(0.1-5000SLM)
科里奧利式:直接質量測量,精度可達±0.1%讀數
閥體系統:
壓電瓷閥(響應時間<10ms)
電磁比例閥(壽命>10?次循環)
溫度 | 使用圧力 | 精度 | 最小F.S. | 最大F.S. | 密封件 | |
low | 80~120℃ | 400kPa(D) | ±1%F.S. | 10SCCM | 25SLM | Au |
high | 100~120℃ | 400kPa(D) | ±1%F.S. | 10SCCM | 25SLM | Au |
技術驗證數據
案例1:半導體刻蝕工藝
控制氣體:Cl?/HBr混合氣
流量范圍:50-200sccm
穩定性測試:8小時波動<±0.3%
典型應用場景
1. 半導體制造:
晶圓刻蝕工藝(Cl?、CF?等特種氣體控制)
CVD沉積(SiH?/N?O流量比控制±1%)
離子注入(BF?/PH?精確配氣)
2. 新能源領域:
燃料電池氫氣供應(動態響應<50ms)
光伏硅烷沉積(流量波動<±0.3%)
3. 制藥行業:
生物反應器氣體供應(O?/CO?/N?三聯控)