當前位置:湖南中村貿易有限公司>>儀器儀表>>SEN日本日森>> PM2001N-3日本SEN日森 UV/EB清洗系統
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環保,能源,建材/家具,電子/電池,電氣 |
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型號 | PM2001N-3 | 產地 | 日本 |
品牌 | SEN | 照射尺寸 | 200×200mm |
日本SEN日森 UV/EB清洗系統PM2001N-3工作原理:
光分解作用:可同時發射波長 254nm 和 185nm 的紫外光,這兩種波長的光子能量能夠直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵,使有機物分子活化,分解成離子、游離態原子、受激分子等。
光敏氧化作用:185nm 波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O?)分解成臭氧(O?);254nm 波長的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧(O)。活性氧原子(O)有強烈的氧化作用,與活化了的有機物分子發生氧化反應,生成揮發性氣體(如 CO?、CO、H?O、NO 等)逸出物體表面,從而清除粘附在物體表面上的有機污染物。
日本SEN日森 UV/EB清洗系統應用場景:
電子行業:可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗,去除光刻膠、油污、指紋等污染物,提高后續工藝的良品率和可靠性。
光學行業:能對光學器件、石英晶體等進行清洗,去除表面的灰塵、油污和有機雜質,保證光學性能和成像質量。
材料處理領域:用于各種基材的預處理,如金屬和玻璃,可改善表面潤濕性,提高對粘合劑、油漆和涂料的附著力。
其他領域:在密封技術、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應用,有助于提高材料的表面性能和使用壽命。
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