HydroFORM掃查器

相控陣腐蝕成像探頭優勢特性

•局部水浸技術 •耦合效果得到優化，可以檢測粗糙的表面 •大面積覆蓋 •避免了楔塊反射 •方便的表面回波同步，用于外壁和內壁腐蝕的監測

典型應用

I4探頭

相控陣腐蝕成像探頭應用

•可以對中等大小及大面積區域進行手動或自動腐蝕檢測，完成對剩余壁厚或內部腐蝕材料的測量

雙晶線性陣列（DLA）腐蝕探頭

優勢特性

•一發一收技術 •極大地減少了表面回波，從而優化了表面分辨率 •可拆裝式弧面延遲塊 •內置灌溉 •環部件可調節，增強了穩定性和耐磨性 •與雙晶UT技術相比，DLA具有更高的探出率、更好的成像效果、更大的覆蓋范圍，以及增強的數據點密度

典型應用

REX1探頭 •可以對較小及中等大小的區域進行手動或自動檢測，完成對剩余壁厚或內部腐蝕材料的測量

ULT1探頭 •可以對較小及中等大小的區域進行手動檢測，完成對表面溫度高達150 °C工件的剩余壁厚或內部腐蝕區域壁厚的測量。

奧氏體、鎳及其它粗晶合金