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鄭州向吉儀器有限公司
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CHI900D/920D掃描電化學顯微鏡

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地鄭州市

更新時間:2025-01-23 16:16:32瀏覽次數:155次

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產地類別 國產 應用領域 環保,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合
CHI900D/920D掃描電化學顯微鏡掃描電化學顯微鏡與掃描隧道顯微鏡(STM)的工作原理類似。但SECM測量的不是隧道電流,而是由化學物質氧化或還原給出的電化學電流。

CHI900D/920D掃描電化學顯微鏡


硬件參數指標

 

高分辨的三維定位裝置:

步進電機XYZ分辨率:8nm  (CHI900D)

步進電機加閉環壓電晶體XYZ分辨率:1.6nm (CHI920D)

XYZ移動距離:50 mm

 

恒電位儀/雙恒電位儀

零阻電流計

234電極結構

浮動地線或實地

 兩個通道最大電位范圍: ±10 V

 最大電流:±250 mA 連續(兩個通道電流之和), ±350 mA 峰值

槽壓:±13 V

恒電位儀上升時間: 小于 1 ms, 通常 0.8 ms

恒電位儀帶寬(-3分貝):1 MHz

所加電位范圍:±10 mV, ±50 mV, ±100 mV, ±650 mV, ±3.276 V, ±6.553 V, ±10 V

所加電位分辨:電位范圍的0.0015%

所加電位準確度: ±1 mV,滿量程的0.01%

所加電位噪聲:< 10 m均方根植

測量電流范圍:±10 pA ±0.25 A 12量程

測量電流分辨:電流量程的0.0015% 0.3 fA

電流測量準確度:電流靈敏度大于等于1e-6 A/V時為0.2%,其他量程1%

輸入偏置電流:< 10 pA

 

恒電流儀

恒電流范圍: 3 nA -250 mA

加電流準確度:如果電流大于 3e-7A時為0.2%,其他范圍為1%±20 pA

 所加電流分辨率:電流范圍的0.03%

測量電流范圍: ±0.025 V,±0.1 V, ±0.25 V, ±1 V, ±2.5 V, ±10 V
測量電位分辨率:測量范圍的0.0015%

 

Electrometer:  電位計

參比電極輸入阻抗:1e12 歐姆

參比電極輸入帶寬: 10 MHz

參比電極輸入偏置電流:<= 10 pA @ 25°C

 

波形發生和數據獲得系統

快速信號發生更新速率:10 MHz 16位分辨

快速數據采集系統:16位分辨,雙通道同步采樣,采樣速率每秒1,000,000 

外部信號記錄通道最高采樣速率1M Hz

 

其他特點

自動或手動iR降補償

電流測量偏置:滿量程,16位分辨,0.003% 準確度

電位測量偏置:±10V16位分辨,0.003% 準確度

外部電位輸入

電位和電流的模擬輸出

可控電位濾波器的截止頻率: 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz

可控信號濾波器的截止頻率: 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz

旋轉電極控制電壓輸出:0-10V 對用于 0-10000 rpm的轉速16位分辨,0.003% 準確度,需要某些旋轉電極裝置才能工作

通過宏命令可以控制數字輸入輸出線

內閃存儲器可迅速更新程序

串行口或USB口數據通訊

電解池控制:通氮,攪拌,敲擊(需要特殊電解池系統)

CV數字模擬器和擬合器。用戶定義反應機理

交流阻抗模擬器和擬合器

探頭逼近曲線的模擬和擬合

最大數據長度:256,000-16,384,000 可選擇

儀器尺寸: 37 cm ( 23   cm ( 12   cm ()

儀器重量: 7 kg


實驗技術

 

掃描探頭技術:

表面成象處理 (SPC)

探頭掃描曲線 (PSCXYZ方向)

探頭逼近曲線 (PAC)

掃描電化學顯微鏡 (SECM)

PSCSECM允許電流,電位,常電流,阻抗檢測

 

電位掃描技術:

循環伏安法 (CV)

線性掃描伏安法 (LSV)

TAFEL (TAFEL)

 

電位階躍和脈沖技術:

計時電流法 (CA)

計時電量法 (CC)

階梯波伏安法 (SCV)

差分脈沖伏安法 (DPV)

常規脈沖伏安法 (NPV)

差分常規脈沖伏安法 (DNPV)

方波伏安法 (SWV)

 

交流技術:

交流伏安法 (ACV)

二次諧波交流伏安法 (SHACV)

傅里葉變換交流伏安法 (FTACV)

交流阻抗 (IMP)

交流阻抗-電位 (IMPE)

交流阻抗-時間 (IMPT)

 

恒電流技術:

計時電位法 (CP)

電流掃描計時電位法 (CPCR)

多電流階躍 (ISTEP)

電位溶出分析 (PSA)

 

其它電化學測量技術:

時間-電流曲線 (i-t)

差分脈沖安培法 (DPA)

雙差分脈沖安培法 (DDPA)

三脈沖安培法 (TPA)

積分脈沖電流檢測 (IPAD)

掃描-階躍混和方法 (SSF)

多電位階躍 (STEP)

流體力學調制伏安法 (HMV)

控制電位電解庫侖法 (BE)

電化學噪聲測量 (ECN)

各種溶出伏安法

開路電位-時間曲線 (OCPT)

 

實驗參數

CVLSV掃描速度:  0.000001V/s  10,000 V/s,雙通道同步掃描及采樣至10,000 V/s

掃描時的電位增量:0.1 mV (當掃速為 1,000 V/s時)

CACC的脈沖寬度: 0.0001  1000 sec

CA的最小采樣間隔: 1 ms 雙通道同步

CC的最小采樣間隔: 1 ms

CC模擬積分器

DPVNPV的脈沖寬度:0.001  10 sec

SWV頻率: 1  100 kHz

 i-t 的最小采樣間隔: 1 ms 雙通道同步

ACV頻率范圍:0.1  10 kHz

SHACV頻率范圍:0.1  5 kHz

FTACV頻率范圍:0.1  50Hz,可同時獲取基波,二次諧波,三次諧波,四次諧波,五次諧波,六次諧波的ACV數據

交流阻抗: 0.00001  1 MHz

交流阻抗波形幅度: 0.00001 V  0.7 V 均方根值

 

CHI900D/920D掃描電化學顯微鏡


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