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ZEM Ultra場發射臺式掃描電鏡
場發射、高分辨觀測
ZEM Ultra臺式掃描電子顯微鏡，繼承了ZEM系列一貫的優良傳統，不僅具有快速成像、全自動操作等特點，還具備出色的抗震性和穩定性。
ZEM Ultra 臺式掃描電鏡采用肖特基場發射電子源，三級獨立真空設計，優于2.5nm的分辨率滿足多數樣品微納結構表征需求。標配大束流及大樣品倉，支持原位功能樣品臺及EDS/EBSD拓展。
場發射臺式掃描電鏡ZEM Ultra是一款高分辨率臺式掃描電子顯微鏡（SEM），基于肖特基場發射電子源與三級獨立真空系統設計，專為材料科學、納米技術及工業檢測領域的高精度微納結構分析打造。其臺式設計兼具緊湊性與穩定性，分辨率≤2.5nm，支持50萬倍放大及多模態信號檢測（SE/BSE/EDS/EBSD），適配從常規表征到原位動態研究的多樣化需求。
核心特點
高分辨成像性能
場發射電子槍：提供高亮度、低能量擴散電子束，分辨率≤2.5nm，清晰呈現納米級表面形貌與成分分布。
多級真空系統：獨立真空設計，提升抗污染能力，保障長時間穩定觀測。
全自動化與智能操作
一鍵式自動功能：自動亮度/對比度調節、自動聚焦、大視野圖像拼接，簡化復雜操作流程。
光學導航與倉內相機：快速定位樣品區域，減少人工調整時間。
靈活擴展與多功能適配
大樣品倉設計：內部尺寸176×185×125mm，兼容塊體、粉末、薄膜等多樣本類型。
原位功能拓展：支持電動多軸樣品臺（XYZ/XYT/五軸）、減速模式（0-10kV）及原位動態實驗（如加熱、拉伸）。
多探測器兼容：標配二次電子（SE）、背散射電子（BSE）探測器，可選配EDS能譜與EBSD衍射系統，實現成分與晶體結構分析。
工業級穩定性與效率
抗震優化設計：適應實驗室或工業現場環境，確保成像穩定性。
快速成像模式：512×512像素視頻級實時觀測，2048×2048像素高清拍攝，滿足高效檢測需求。
應用領域
納米材料：碳納米管、金屬顆粒、量子點形貌與尺寸分析。
能源材料：鋰電池正負極（如磷酸鐵鋰）、催化劑、光伏材料微觀結構表征。
半導體與電子：芯片缺陷檢測、薄膜涂層均勻性評估。
地質與化工：礦物顆粒、高分子材料、多孔介質（如二氧化硅）表面研究。
參數摘要
| 關鍵指標 | 參數詳情 |
|---|---|
| 分辨率 | ≤2.5 nm（高真空模式） |
| 放大倍數 | 20×至500,000× |
| 加速電壓 | 1-15 kV連續可調 |
| 樣品臺 | 電動多軸（XYZ/XYT/五軸可選） |
| 探測器 | SE、BSE、EDS（選配）、EBSD（選配） |
| 成像模式 | 視頻（512×512）、高清（2048×2048） |
| 樣品倉尺寸 | 176mm（寬）×185mm（長）×125mm（高） |
場發射臺式掃描電鏡 優勢總結
臺式高效：場發射光源+全自動操作，兼顧高分辨率與便捷性。
多維分析：支持形貌、成分、晶體結構多模態數據聯動。
擴展靈活：原位臺與減速模式拓展動態實驗能力，適配前沿科研需求。
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