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當前位置：玉崎科學儀器（深圳）有限公司>>Rigaku理學>>半導體測量設備>> XHEMIS TX-3000半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
| 價格區間 | 面議 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,綜合 |
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半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
半導體設備理學Rigaku反射熒光X射線光譜儀
| 檢測限LLD（E10原子/cm2） | 鋁 | 鐵 | 鎳 | 銅 |
| 發射光譜 | 14 | 0.06 | 0.06 | 0.09 |
測量時間：1000秒
| 方法 | 全內反射X射線熒光分析（TXRF） | |
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| 目的 | 快速無損測量痕量元素表面污染（Na - U） 將繪圖速度提高約 3 倍 E9 原子/cm2 的檢測極限 | |
| 技術 | 高靈敏度金屬污染分析 | |
| 主要部件 | 3 探測器配置 高功率 W 對陰極 X 射線源（9 kW 旋轉對陰極） 針對輕元素、過渡元素和重元素優化的 3 種激發能量 XYθ 樣品臺 2 個 FOUP 裝載端口 | |
| 特征 | 全晶圓映射 (SWEEPING-TXRF)、零邊緣排除 (ZEE-TXRF) | |
| 選項 | 背面分析 (BAC-TXRF)、GEM300 軟件、E84/OHT 支持 | |
| 機身尺寸 | 1280（寬）×3750（深）×2040（高） （不含監視器和信號塔） | |
| 測量結果 | 定量結果、光譜圖、彩色等高線圖、映射表 | |
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