產品名稱：無掩模光刻機

產品型號：ABN-MLM-001

產品簡介：無掩膜光刻系統利用計算機生成的數字掩模圖形，并通過聲光調制器（AOM）輸出，經過聲光掃描器和反射鏡將光束引導至光學投影系統。系統將高精度、強度可調的激光束投射到晶圓或掩模板的表面，實現對抗蝕材料的可變劑量曝光。激光束根據預設的設計圖形直接對基片表面進行曝光，顯影后在抗蝕層上形成所需的圖案。這種技術無需傳統的物理掩模，因此大大縮短了制作周期，同時降低了設計和生產成本。尤其是在快速迭代設計的場景中，顯現出極大的靈活性和效率。通過計算機控制，可以實現亞微米級別的精確加工，適用于微納米結構制造。

無掩膜光刻技術廣泛應用于以下領域：

· 大規模集成電路（IC）掩模版制作：實現高精度、快速迭代的掩模版設計與制作。

· 微納加工：適用于MEMS（微機電系統）元件的精密圖形寫入。

· LED產業：在高精度LED芯片設計與制造中具有重要作用。

· 生物芯片：用于生物芯片中微結構的快速成像與制備。

相較于傳統掩膜光刻技術，無掩膜光刻系統具有更高的靈活性、更短的開發周期以及更低的運營成本，使其成為現代微納制造中的重要工具之一。

設備技術指標：
•工作波長：405 nm
• 激光功率：最大300mW
• 分辨率：0.3 μm
• 對準精度：正面0.1μm（1mm圖形范圍內)，背面1um(2.5寸)
• 掃描速度：3-150 mm2/min
• 樣品尺寸：最大 8英寸
• 具有灰度曝光功能