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當前位置：深圳秋山工業設備有限公司>>實驗設備>>清洗機>> TWC-200A日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 2萬-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,能源,電子,電氣,綜合 |
日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點介紹
全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥，而不是傳統的氣刀干燥，并采用免調節設計，省去了水飛濺調節的麻煩。 熱純水干燥
對應的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。
日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規格參數
?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑
?輕松移除蒙版上的粒子
?清洗液開發對環境友好的溫和的水溶性藥液
?從熱硫酸和硫酸過水等危險中解脫出來
?不需要昂貴的去除劑和顯影液
用途：平板顯示器，MEMS器件，精細圖案PCB/FPC/TAB，化合物半導體，薄膜電子元件等。
TWC系列可同時去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養的顆粒去除技術，有助于提高口罩的清潔度。
全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥，而不是傳統的氣刀干燥，并采用免調節設計，省去了水飛濺調節的麻煩。 熱純水干燥
對應的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。
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