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涂裝設備是將化學品等涂敷到產品和材料上的設備。
典型的涂布設備有輥涂機、旋涂機、浸涂機、噴涂機、點涂機等，根據被涂物的形狀、被涂物的種類、涂膜的目的而采用各種涂敷方法。 。
近年來，半導體制造、FPD（平板顯示器）制造、太陽能電池和二次電池制造等工業領域對精確的鍍膜精度提出了要求，因此隨著鍍膜技術的進步，鍍膜設備也得到了顯著的改進。
涂裝設備的應用
涂裝設備用于在半導體領域和二次電池等各種制造過程中將涂裝液涂敷到物體上。應用光致抗蝕劑的旋涂設備用于計算機、液晶電視、智能手機和平板電腦等要求更薄、更高功能和更高密度的半導體制造領域和FPD（平板顯示器）制造領域的光刻工藝。經常。
輥涂是將到二次電池、太陽能電池、汽車零部件、住宅材料、紡織品、醫藥等使用的功能性薄膜和片狀產品上的粘合劑、密封劑噴涂設備、使用分配涂覆設備等。
涂布裝置原理
涂裝設備是對化學品和各種產品材料等材料進行涂敷的設備。它大致可分為輥涂、旋涂、噴涂和點涂。
1、滾涂裝置
輥涂設備通常用于涂覆相對較薄、平坦的材料，例如薄膜和片材。
凹版涂布機和反向涂布機利用與待涂布的化學品池接觸的輥的旋轉以及薄膜或片材等材料的卷繞旋轉，具體取決于化學品的特性和粘度以及薄膜厚度。可以使用各種應用方法。
可以采用卷對卷涂布，并且是適合高速涂布的方法。這些方法的特點是在涂布液與被涂物之間形成珠粒，并且被涂物、或被涂物與輥兩者移動或旋轉，從而對被涂物施加剪切力。施加壓力并薄薄地涂抹。
穩定該珠子對于高質量涂層至關重要。
2、旋涂設備
旋涂設備將半導體制造領域和FPD（平板顯示器）制造領域的光刻工藝中使用的光致抗蝕劑分配到旋轉臺上的產品上，然后利用旋轉臺的離心力使化學溶液擴散。使用涂覆方法形成薄膜的裝置。
雖然這種方法允許最薄的涂層，但它不適合大規模生產，因為它不允許多次涂層或連續生產。
3、噴涂設備
噴涂設備將化學液體轉化為細小顆粒，應用于汽車、外部建筑材料等。當被涂物較大時，可以利用機器人的大范圍運動，實現高精度、大范圍的涂裝。這是一種使用涂層方法的裝置。
產生顆粒噴霧的方法有空氣、電力和超聲波三種。
4、浸涂設備
浸涂設備的工作原理是將物體浸入浸涂液中并將其拉起，無論物體的形狀如何。可形成均勻的薄膜，用于光學透鏡、醫療系統、電子設備等。
浸涂設備的一個特點是，無論物體的形狀如何，它都可以形成均勻的薄膜，且涂液損失很少。
5、點膠涂裝設備
分配涂抹器用于需要相對精確的線性涂抹的情況。該裝置配備了可以控制涂布量的點膠機構，當需要更精確的涂布時，它采用了使用機器人將涂布量與精確度相結合的涂布方法。 當然，涂布速度較慢，但可以對小面積進行點涂并形成復雜形狀的涂層。
