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當前位置：天津瑞利光電科技有限公司>> KMLabs諧波發生源XUUS 5
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子/電池,電氣 |
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產品名稱：KMLabs諧波發生源XUUS 5
產品型號：XUUS 5
產品介紹
XUUS 5 將超快激光脈沖上轉換為光譜的極紫外 (EUV 或 XUV) 或軟 X 射線區域。采用 HHG 工藝，輸出光束繼承了驅動激光器（如 KMLabs RAEA）的相干特性，波長可在約 10 至 50 nm 之間調節。此外，定制系統可以生成波長短至 6 nm 的相干光束。XUUS 5 采用 KMLabs 的空心波導進行高次諧波上轉換工藝。
XUUS 空心光纖或波導架構使系統產生的諧波與其他 HHG 方法區分開來，保證諧波每次都來自空間中的同一點，更大限度地減少任何指向漂移。此架構可優化實驗的可重復性。此外，使用光纖（而不是典型的氣體噴射或semi-infinite氣室目標幾何形狀）可為相位匹配 HHG 提供壓力可調性。現在，您可以選擇堅固性，而無需犧牲靈活性。
性能特點
l 空心波導中的高諧波轉換可實現轉換、穩定性、可重復性和穩健性。
l 對于苛刻的應用，EUV 通量可以超過 1×1012 ph/秒。
l 超穩定的4軸主動光束穩定，可產生與可見紅外激光器相當的 EUV 光束強度和波前穩定性。
l 高平均功率處理能力推動下一代實驗。
l 用于性能監控和對準控制的診斷攝像機。
l 圖形化、直觀的軟件控制。
l 在溫度穩定的平臺上進行穩定的工業光學安裝。
l 不斷增長的應用專用光束線系列可為您的實驗提供量身定制的光子。
l 高度相干、類似激光的 EUV (XUV) / SXR。
l XUUS 系統配置可生成波長約為 6 nm 的軟 X 射線。
l 波導設計允許使用高壓氣體，同時將氣體用量降至更低：比氣體噴射幾何結構少 1000 倍，效率提高 1000 倍。
l XUUS 輸出可針對不同的應用進行優化：ARPES、成像、瞬態吸收、MOKE、XMCD。
技術參數
產地：美國
波長范圍（~800nm 泵浦）：~10-50nm
通量：高達 1012ph/s/諧波
通量波動（>8 小時）：<5% RMS
指向波動（> 8 小時）：<5µrad RMS
尺寸：1200 mm L x 330 mm W x 176 mm H
光束高度：4.5"(114.3mm)
生成波長：約6 nm
光束穩定：4軸
架構：波導
波導：空心
產品應用
光發射：tr-ARPES 和阿秒材料科學
納米電子學計量學和 EUV 光刻支持
高分辨率和時間分辨無透鏡納米成像
超快磁性材料和自旋電子學研究
磁性、材料、分子和納米系統動力學的高空間和時間分辨率泵探測研究
分子動力學和阿秒科學
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