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設(shè)備用途及基本要求：
該裝置是在大氣中照射短波長紫外線，以除去附著在各種材料表面的有機(jī)系薄膜為目的清洗裝置。另外，它也是一種表面改性裝置，目的是利用短波長紫外線和臭氧的活性作用，提高各種樹脂表面的潤濕性。
Requirements, main specifications and parameters of the Equipment
設(shè)備技術(shù)要求及主要規(guī)格參數(shù)
紫外燈功率：90W X 7；
照射臺尺寸：300mmX340mm；
輸入電源要求為：3相200V±6%/50Hz，容量空開大于10A；
排氣孔徑為φ75，請連接裝置背面的排氣口，用軟管帶固定。請將一邊連接到排氣管或者放到室外。
壓縮空氣需求：空氣入口（φ8單觸接頭），提供0.4MPa以上的干燥空氣。
外部尺寸：1200mm X 900mm X 1140mm
