薄膜電阻測(cè)試儀(四探針、電渦流) 參考價(jià)：面議
電阻測(cè)量和監(jiān)控對(duì)于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都至關(guān)重要，從半導(dǎo)體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品。R50薄膜電阻測(cè)試儀(四探針、電渦流)在金屬膜均勻性分布、離子摻...
超低溫力學(xué)測(cè)試系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超低溫力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)專用于超低溫環(huán)境的材料力學(xué)試驗(yàn)機(jī)，溫度低至-269℃。
力電聯(lián)測(cè)試驗(yàn)機(jī) 參考價(jià)：面議
力電聯(lián)測(cè)試驗(yàn)機(jī)通過(guò)軟件關(guān)聯(lián)試驗(yàn)機(jī)和電學(xué)儀表（LCR），實(shí)現(xiàn)力--電同步測(cè)試，除常規(guī)的試驗(yàn)機(jī)測(cè)試外，還可得到：載荷\應(yīng)力-電阻\電容、位移\應(yīng)變-電阻\電容曲線。
材料試驗(yàn)機(jī) 參考價(jià)：面議
材料力學(xué)試驗(yàn)機(jī)，包括靜態(tài)、動(dòng)態(tài)、沖擊試驗(yàn)等，采用多種加載方式，如：機(jī)械加載、電/液伺服加載、多軸協(xié)調(diào)加載等
微納拉伸試驗(yàn)機(jī) 參考價(jià)：面議
微納力學(xué)，微納拉伸測(cè)試，納米拉伸測(cè)試
納米壓痕儀 參考價(jià)：面議
高精度納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)，原位納米力學(xué)測(cè)試平臺(tái)。
原子力顯微鏡 參考價(jià)：面議
原子力顯微鏡可進(jìn)行高精度的粗糙度、臺(tái)階高度及微納米級(jí)別三維輪廓等測(cè)量，同時(shí)可以測(cè)量相位、電場(chǎng)、磁場(chǎng)、導(dǎo)電力等其他各種高級(jí)物理量。
橢偏儀 參考價(jià)：面議
橢偏儀：超薄膜的實(shí)時(shí)可視化分析測(cè)試，實(shí)時(shí)觀察樣品微觀尺度上的結(jié)構(gòu)。可以測(cè)量諸如薄膜厚度、折射率和吸收系數(shù)等參數(shù)。也可以對(duì)薄膜進(jìn)行區(qū)域化(選區(qū))分析，獲得所選區(qū)域...
反射膜厚儀 參考價(jià)：面議
反射膜厚儀采用反射干涉原理，無(wú)損測(cè)量薄膜厚度及其光學(xué)參數(shù)。
白光干涉儀 參考價(jià)：面議
白光干涉垂直掃描和移相干涉測(cè)量法，0.1nm臺(tái)階，采用TotalFocus 技術(shù)，全視場(chǎng)真彩色圖像。
多模組三維光學(xué)輪廓儀 參考價(jià)：面議
多模組三維光學(xué)輪廓儀標(biāo)配ZDot白光共聚焦逐層成像，可選裝多模式光學(xué)系統(tǒng)。
探針式輪廓儀（臺(tái)階儀） 參考價(jià)：面議
探針式輪廓儀（臺(tái)階儀）高精度、低噪聲、高穩(wěn)定性和大掃描量程，這些技術(shù)特點(diǎn)為P系列臺(tái)階儀在晶圓測(cè)試領(lǐng)域的廣泛使用奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也為其拓展了在其他材料測(cè)試方面的...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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