目錄:深圳市錫成科學儀器有限公司>>粉末/多孔材料測試>>Zeta電位及納米粒度分析儀>> NANOTRAC WAVE IIZeta電位及納米粒度分析儀
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 分散方式 | 干濕法分散 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 50萬-60萬 | 儀器種類 | 動態(tài)光散射 |
| 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
NANOTRAC WAVE II Zeta電位及納米粒度分析儀采用先進的“Y”型光纖探針光路設(shè)計，配置膜電極產(chǎn)生微電場，操作簡單，測量迅速。
無需精確定位由于電泳和電滲等效應導致的靜止層，無需外加大功率電場，無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池，消除由于空間位阻（不同光學元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差異，分散介質(zhì)的影響，顆粒間多重散射等）帶來的光學信號的損失，結(jié)果準確可靠，重現(xiàn)性好。
Zeta電位及納米粒度分析儀技術(shù)參數(shù)
測量原理：動態(tài)光散射法
Zeta電位測量：膜電極設(shè)計與“Y”型探頭形成微電場測量電泳遷移率
分子量測量：水力直徑或德拜曲線
測量范圍：0.3 nm - 10 µm
檢測角度：180°
重復性：±1%
Zeta電位范圍：-200mV~+200mV
Zeta粒徑范圍：10nm~20μm
電泳遷移范圍：0 - 15 (µm/s) / (V/cm)
電導率范圍：0 - 10 mS / cm
分子量范圍：<300 da="" -="">20 x 106 Da
控溫范圍：+4°C ~ +90°C
溫度精度：±0.1℃
Zeta測量重復性：±3%
Nanotrac Flex：180°動態(tài)光背散射
Nanotrac Wave II：動態(tài)光背散射
粒徑與粒形分析方法
| 方法名稱 | 激光衍射 | 動態(tài)光散射 | 動態(tài)圖像分析 | 靜態(tài)圖像分析 |
| 測量范圍 | 10nm-4000μm | 1nm-6500nm | 0.8μm-135mm | 0.5μm-1500mm |
| 尺寸計算方法 | 間接/來自光散射圖案 | 間接/來自布朗運動 | 直接/來自顆粒圖像 | |
| 單個粒徑分析 | 無 | 無 | 有 | 有 |
| 測量速度 | 10-60秒 | 30-180秒 | 2-5分鐘 | 10-60分鐘 |
| 粒形分析 | √（SYNC型除外） | × | √ | √ |
| 濕性分析 | √ | √ | √ | √ |
| 干性分析 | √ | × | √ | √ |
| Zeta電位&分子量 | × | √ | × | × |
| 優(yōu)勢 | 效率、樣品多樣性、重復性 | 納米材料分析，濃度范圍寬 | 效率、樣品多樣性、重復性、高精度、高分辨、參數(shù)多樣性 | 精度的形貌測量 |
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