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天津泰諾科學技術有限公司
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低溫磁控濺射儀

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具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質經銷商

所  在  地天津市

更新時間:2023-06-13 14:13:34瀏覽次數:533次

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供貨周期 現貨 應用領域 環保,化工,生物產業,農業,制藥
自動磁控低溫離子濺射鍍膜儀
適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜(金膜、鉑金、銀、鎳、銅等),儀器操作簡單方便,是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的實驗手段,廣泛應用于集成電路,光子晶體,低維半導體、微生物、超微膜材料等領域。

低溫磁控型濺射儀特點

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗,方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調閥調節靈敏準確,帶有刻度標識;

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實驗室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,使用方便;

7.結構簡單可靠,布局合理,維修操作空間大;

8.自動真空的進排氣,關機自動放棄(標準版手動放氣)

9.優化機型外觀,整潔大方,體積靈巧;

10.數字方式定時,0-9999秒區間自主調節;

11.采用冷陰極磁控濺射靶頭;

12.升降式上翻蓋結構,更換樣品方便快捷;

13.采用定制“凹"密封,更加方便操作;

14.增大樣品處理室空間,φ150X110高硬度耐高溫石英晶體;

15.定制型真空泵排氣過濾器;

16.獨立式升降樣品臺組件(標準為2支柱緊固型);

石英處理室:Φ150mm,高度110mm;

濺射類型: 冷陰極磁控型二級濺射;

樣臺尺寸:150mm,樣品臺插孔61個可選;

可升降和手動旋轉

樣品更換:升降式上翻蓋結構,上蓋打開可獨立支撐

靶材尺寸:Φ50(可選配定制高效率靶材);

真空系統:型渦旋真空泵2L/S;

真空檢測:定制皮氏計,配合真空指針表,靈敏可靠;

真空保護:20Pa配有微量充氣閥調節工作真空;

真空泄壓:自動進排氣(無需手動放氣閥);


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