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HWN-P1500納米激光直寫系統?是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統，根據壓電平臺的移動范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號，具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求，提供定制設計和制造。

新概念技術：華維納HWN-P1500納米激光直寫系統通過激光與材料的非線性相互作用，成功突破了光學衍射極限的限制，實現了納米尺度的加工分辨力，最小的孔洞直徑可達50nm。

多受體材料：華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制（＜1‰），可兼容包括金屬薄膜、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料。

可靠易用性：華維納HWN-P擁有強大的軟件功能，支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式，供用戶根據不同的刻寫場景而選擇。另外，LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析，使用戶一站式完成設計、刻寫、分析等步驟， 大大提高了工作效率。