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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>元器件高低溫測試機>>Chiller>> ETCU-015W半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

參   考   價: 146325

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號ETCU-015W

品       牌冠亞恒溫

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2025-03-20 11:24:51瀏覽次數:235次

聯系我時,請告知來自 化工儀器網
產地類別 國產 價格區間 10萬-50萬
冷卻方式 水冷式 儀器種類 一體式
應用領域 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣
【無錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設備廠家,公司主要生產高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領域的可靠性測試提供整套溫度環境解決方案。半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃

半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃


晶圓制造是半導體行業的核心環節,其過程對溫度控制的要求高。晶圓制造領域控溫Chiller作為晶圓制造領域的配套使用的控溫設備,對保證產品質量和生產效率起著一定作用。

一、晶圓制造過程簡介

晶圓制造涉及多個復雜步驟,包括光刻、蝕刻、擴散、離子注入等。這些步驟都需要在控制的溫度條件下進行,以確保晶圓上的微電路圖案準確無誤。溫度的微小變化都可能導致產品性能的大幅下降,甚至造成生產失敗。

二、Chiller的作用與重要性

晶圓制造領域控溫Chiller的主要作用是通過循環冷卻水來維持晶圓制造設備的溫度穩定。在光刻過程中,Chiller通過控制光刻膠的溫度,保持其黏度和揮發速率的穩定,減少線寬偏差。同時,晶圓制造領域控溫Chiller還能控制光學系統的熱變形,降低像差。

1、穩定光刻膠性能,Chiller能夠維持光刻膠溫度在很小的范圍內,避免溫度波動導致光刻膠黏度變化或溶劑揮發速率異常。

2、控制光學系統熱變形,通過循環冷卻水導出熱量,確保光學系統形變量控制在0.1nm以內,降低像差。

3、優化工藝窗口,通過調節光刻機內部環境溫度,間接控制光刻膠的曝光度,擴大焦深范圍。

4、動態響應與異常防控,采用PID算法與變頻壓縮機的Chiller,可在短時間內響應光刻機的瞬時熱量激增,縮短溫度恢復時間。

三、Chiller的技術特點

具有高精度溫度控制,晶圓制造領域控溫Chiller能夠實現很小的溫度波動控制,滿足晶圓制造對溫度精度的嚴苛要求。設備的穩定性和可靠性有助于維持晶圓制造過程中的溫度穩定性。

隨著半導體技術的不斷進步,對Chiller的性能要求也在不斷提高。未來的Chiller需要具備更高的溫度控制精度、更快的響應速度以及更強的適應性。Chiller在晶圓制造領域不僅能夠提高產品質量和生產效率,還能夠降低影響。隨著技術的不斷發展,晶圓制造領域控溫Chiller將繼續在半導體制造領域發揮其作用,并推動發展。

半導體晶圓制造用Chiller丨光刻機溫控0.1℃



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