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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>元器件高低溫測試機>>循環風控溫裝置>> FLTZ-003晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制

晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制

參   考   價: 152333

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號FLTZ-003

品       牌冠亞恒溫

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2025-02-26 15:17:09瀏覽次數:439次

聯系我時,請告知來自 化工儀器網
產地類別 國產 價格區間 10萬-50萬
冷卻方式 水冷式 儀器種類 一體式
應用領域 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣
【無錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設備廠家,公司主要生產高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領域的可靠性測試提供整套溫度環境解決方案。晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制

晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制

晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制


  晶圓制造過程控溫Chillerr在晶圓制造中承擔關鍵溫控功能,其應用覆蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積等核心工藝環節。以下是具體應用案例與技術細節分析:

  一、光刻工藝溫度控制

  1.光刻膠恒溫管理:晶圓廠采用Chiller為ArF光刻機提供冷卻,通過維持光刻膠溫度在23±0.1℃,使光源的曝光精度提升。

  2.鏡頭熱變形補償:在EUV光刻機中,晶圓制造過程控溫Chiller通過雙循環系統(-30℃冷水+40℃熱油)同步冷卻光學模塊,將鏡頭熱膨脹系數控制,實現節點套刻精度提升。

  二、刻蝕工藝動態控溫

  1.等離子體刻蝕溫度優化:某存儲芯片廠在3D刻蝕中,使用Chiller將反應腔溫度穩定在-20℃至80℃可調范圍,使刻蝕均勻性提升。

  2.濕法刻蝕液溫控:在硅槽刻蝕工藝中,晶圓制造過程控溫Chiller維持氫氟酸混合液溫度在25±0.3℃,刻蝕速率標準差下降。

  三、薄膜沉積工藝溫控

  1.ALD原子層沉積:芯片制造中,晶圓制造過程控溫Chiller為ALD設備提供40℃恒溫環境,使高介電薄膜厚度偏差更小。

  2.CVD反應腔冷卻:在SiN薄膜沉積中,采用雙級壓縮Chiller,將反應腔壁溫控制在80±1℃,薄膜應力均勻性提升。 

  四、清洗與離子注入工藝

  1.超純水冷卻系統:在晶圓單片清洗機中,晶圓制造過程控溫Chiller維持超純水溫度在22±0.2℃,減少DI水表面張力波動,使顆粒殘留降至。

  2.離子注入機靶材冷卻:采用-40℃低溫Chiller冷卻硅靶材,使硼離子注入深度偏差優化。

晶圓制造過程控溫Chiller的技術迭代正推動晶圓制造向更好的方向發展,成為半導體設備國產化進程中的突破點之一。



晶圓制造過程控溫Chiller用于封裝溫度控制




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