冠亞—制藥控溫設(shè)備新研發(fā)tcu設(shè)備

冠亞—制藥控溫設(shè)備新研發(fā)tcu設(shè)備

冠亞—制藥控溫設(shè)備新研發(fā)tcu設(shè)備

造成水溫高的原因可能是：冷卻塔故障，如風(fēng)機(jī)未開(kāi)甚至反轉(zhuǎn)，布水器不轉(zhuǎn)，表現(xiàn)為冷卻水溫度很高，而且快速升高;外界氣溫高，水路短，可循環(huán)的水量少，高低溫一體機(jī)這種情況冷卻水溫度一般維持在較高的水平，可以采取增加儲(chǔ)水池的辦法予以解決。

化工行業(yè) 主要用于化工反應(yīng)釜（化工換熱器）的降溫冷卻，及時(shí)帶走因化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生的巨大熱量從而達(dá)到降溫（冷卻）的目的，用以進(jìn)步產(chǎn)品質(zhì)量?！?/span>高低溫一體機(jī)制冷系統(tǒng)的工作流程是制冷劑在蒸發(fā)器中汽化，所產(chǎn)生的蒸汽經(jīng)過(guò)吸氣過(guò)濾器進(jìn)入壓縮機(jī)。制冷劑在壓縮機(jī)中被壓縮為高壓氣體，同時(shí)潤(rùn)滑油噴入壓縮機(jī)中與制冷劑一起被壓縮，

無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的溫度控制單元tcu采用現(xiàn)有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初系統(tǒng)”）基礎(chǔ)設(shè)施集成到用來(lái)控制工藝設(shè)備溫度的單流體系統(tǒng)或二回路中。

無(wú)錫冠亞的溫度控制單元tcu系統(tǒng)設(shè)計(jì)上有著自己*的優(yōu)勢(shì)，通過(guò)運(yùn)算控制整個(gè)反應(yīng)過(guò)程溫度。

　　溫度控制單元tcu系統(tǒng)設(shè)計(jì)特點(diǎn)

　　A、用戶(hù)在操作溫度控制單元tcu的時(shí)候，在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復(fù)的溫度控制，可實(shí)現(xiàn)-120度～300度控溫。

　　B、溫度控制單元tcu避免了傳統(tǒng)設(shè)備設(shè)施的更換及夾套維護(hù)的需求，較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應(yīng)并且熱反應(yīng)延遲很小，溫度控制單元tcu控溫是獨(dú)立個(gè)體，有獨(dú)立膨脹罐，一旦發(fā)生故障只會(huì)污染個(gè)體，不會(huì)污染其他其他的反應(yīng)釜。

　　C、溫度控制單元tcu內(nèi)置電加熱導(dǎo)熱油輔助系統(tǒng)，可根據(jù)需求自動(dòng)開(kāi)啟輔助加熱系統(tǒng)，降低蒸汽使用壓力，在物料溫度控制與夾套溫度控制可自由選擇。

　　D、溫度控制單元tcu可以通過(guò)快速運(yùn)行配比各熱量需求，能耗低，可以達(dá)到節(jié)約能源目的。

　　E、溫度控制單元tcu通過(guò)快速運(yùn)算控制整個(gè)反應(yīng)過(guò)程溫度，對(duì)于整個(gè)反應(yīng)過(guò)程中出現(xiàn)放熱和吸熱反應(yīng)進(jìn)行快速響應(yīng)控制。

　　F、溫度控制單元tcu設(shè)置預(yù)留有標(biāo)準(zhǔn)化接口，可根據(jù)實(shí)際需求增加冷熱源換熱模塊。

　　G、在運(yùn)行溫度控制單元tcu的時(shí)候，可選擇控制反應(yīng)過(guò)程溫度和單流體溫度，同時(shí)反應(yīng)過(guò)程溫度與導(dǎo)熱單流體溫度之間的溫差是可設(shè)定可控制的。

　　H、可進(jìn)行配方管理與生產(chǎn)過(guò)程記錄，可記錄操作人員來(lái)記錄，后期一旦檢查的時(shí)候，就可以查看整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程。

無(wú)錫冠亞一直堅(jiān)持客戶(hù)*、質(zhì)量*，帶給大家的全密閉管道式溫度控制單元tcu，確保系統(tǒng)的安全操作，電動(dòng)發(fā)均可以手動(dòng)*打開(kāi)。