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首頁>>廈門韞茂科技有限公司>>產品展示>>半導體行業專用儀器>>ALD

  • 粉末ALD廠家 參考價：面議

    粉末ALD廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具...
    型號： GM10/100/... 廠商性質：生產商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統原子層沉積
    2024/8/22 13:24:341769

  • 雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統 參考價：面議

    雙腔室高真空等離子體ALD設備是對ALD技術的擴展，通過等離子體的引入，產生大量活性自由基，增強了前驅體物質的反應活性，從而拓展了ALD對前驅源的選擇范圍和應用...
    型號： QBT-A 廠商性質：生產商所在地：廈門市 對比
    真空等離子體等離子體ALD系統ALD系統雙腔型等離子系統ALD設備
    2024/8/22 13:22:173035

  • ALD 參考價：面議

    桌面式原子層沉積系統ALD（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...
    型號： Mini Desk... 廠商性質：生產商所在地：廈門市 對比
    ALD原子層沉積系統超小型平片原子層沉積原子層沉積ALD桌面型原子層沉積系統
    2024/8/22 13:20:321815
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