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該摩擦機(jī)是為L(zhǎng)CD研發(fā)實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的。該系統(tǒng)旨在追蹤聚酰亞胺上的凹槽以定向液晶分子。凹槽使用深度為幾埃的特殊摩擦布制成。基板由真空吸盤保持，真空吸盤包括真空泵并與系統(tǒng)集成。HO-IAD-BTR-02型中可裝載的玻璃基板的大尺寸為200mm直徑。基板和真空卡盤被固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，以便在不同的摩擦方向上以±20度的任何所需角度旋轉(zhuǎn)和定位。

該系統(tǒng)被開發(fā)為一個(gè)獨(dú)立單元，其中主軸的速度和基板的速度可以變化。

特性

● 可傾斜調(diào)整，以調(diào)平基板。

● 可用于調(diào)整高度的垂直平臺(tái)。

● 真空釋放按鈕

主要參數(shù)

● 基板平臺(tái)

a) 電動(dòng)線性平臺(tái)

b) 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)

c) 行程: 300 mm

d) 小速度: 0.05 mm / s

大速度: 6 mm / s

e) 可移動(dòng)基材的大尺寸: 直徑200mm

f) 基板固定在可旋轉(zhuǎn)+/-45度的旋轉(zhuǎn)臺(tái)上

g) 可選項(xiàng)： 可選擇配置基材加溫卡盤，可加熱到155度。

●摩擦輪執(zhí)行器: 無(wú)刷直流電機(jī)帶速度控制

大速度: 3000 rpm

小速度: 0 rpm

● 在液晶顯示屏上顯示速度

● 通過(guò)旋鈕來(lái)控制主軸的速度

● 電源輸入: 230 VAC

● 該系統(tǒng)可以在獨(dú)立模式下使用

儀器體積小，可直接放置于實(shí)驗(yàn)臺(tái)面。