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EXTREL_APIMS-痕量大氣壓離子質譜儀
•實時、多組分監控所有大宗電子氣中的關鍵雜質包括痕量
O2, H2, H2O, CH4, CO, CO2, NH3, Xe等
•久經考驗、性能強大的質譜技術
•通過配置的雙離子源，覆蓋從PPT到100的分析量程范圍。
•通過集成可視化的用戶界面實現自動標定功能，操作非常簡單。
•專業的客戶服務和應用支持團隊
EXTREL_APIMS-痕量大氣壓離子質譜儀產品描述
•可靠的超純氣體生產和供應
•一臺分析儀分析所有雜質
•全自動，實時雜質報警功能
•可靠的24/7工藝保護
•晶圓產能
VeraSpec APIMS不僅分析速度快、靈敏度高，而且操作簡單，可用于連續監控氮氣、氬氣、氦氣、氧氣和氫氣的供應需求。通過對ppt級別雜質的快速響應大程度保護電子制造工藝。
擁有Extrel VeraSpec APIMS，保護您的半導體生產
超純氣對半導體設備生產非常重要。通過對超純氣純度的連續監測可以確保半導體設備的產能。其被雜質污染后的代價是非常昂貴的。
半導體工廠需要連續實時監測工藝氣的純度，雜質的檢測限至低ppt級別。
要達到如此低的檢測下限，方式就是應用大氣壓離子質譜儀。在20多年里，APIMS已經被應用在科學研究和檢測工業在線微量氣體的標準技術。
基于四極桿技術的Extrel VeraSpec APIMS系統能檢測的氣體含量和氣體組分范圍非常寬泛。同時儀器的長期穩定性、重復性是大多數應用所必須要求的。
為了追求優的性能、穩定性和運行時間，在半導體氣體分析領域，Extrel 是運用19mmTri-filter四極濾質器的質譜儀生產商。
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