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1200℃五溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-V（定制） 參考價：面議
1200℃五溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-V（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，...
1200℃雙溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R-Ⅱ 參考價：面議
1200℃雙溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R-Ⅱ專門針對于材料的混合燒結，特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結，如 LiFePO3、LiMnNiO3等。...
1700℃三溫區高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ 參考價：面議
1700℃三溫區高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個數字溫度控制器進行獨立控溫，可設置30段升降溫程序，中心加熱區采用800℃級硅鉬棒加熱，另外兩個溫區...
1200℃七溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制） 參考價：面議
1200℃七溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯...
1400℃雙溫區真空氣氛管式爐GSL-1400X-II 參考價：面議
1400℃雙溫區真空氣氛管式爐GSL-1400X-II以硅碳棒為加熱元件，采用S型單鉑銠熱電偶測溫和518P溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作...
1500℃三溫區開啟式管式爐OTF-1500X-III 參考價：面議
1500℃三溫區開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐，Z高溫度可達1500℃，三個溫區分別用三個獨立的溫控系統控制，每個溫區都可以設置30段升降溫...
1600℃雙溫區高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ 參考價：面議
1600℃雙溫區高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ每個加熱區域長300mm，由30段智能溫度調節儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃，采用硅碳棒加...
1600℃三溫區高溫真空管式爐GSL-1600X-III 參考價：面議
1600℃三溫區高溫真空管式爐GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗或小批量生產，針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積...
1700℃雙溫區高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ 參考價：面議
1700℃雙溫區高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ每個溫區長300mm，由30段智能溫度調節儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1700℃，采用硅碳棒加熱元...
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S 參考價：面議
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀，Z高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態下材料的燒結和退火。
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X 參考價：面議
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X內膛中嵌有ZrO2內襯，并采用Kanthal Super-1900硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可以達到1800℃，廣泛用...
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X-S 參考價：面議
1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X-S內膛中嵌有ZrO2內襯，并采用Kanthal Super-1900硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可以達到1800℃，廣...
1200℃單溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R 參考價：面議
1200℃單溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R是針對無機化合物煅燒，為獲得較好的*性而設計。特別對于鋰電池負極材料的制備，具有*的效果，且可提高導電性。...
1200℃三溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-5L-R-III 參考價：面議
1200℃三溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-5L-R-III主要針對于粉料的混燒，爐管可360°轉動，且內部設有4片揚料板，可增加粉料燒結的均勻性...
1500℃單溫區可傾斜旋轉管式爐GSL-1500X-OTF-R60 參考價：面議
1500℃單溫區可傾斜旋轉管式爐GSL-1500X-OTF-R60是專門為無機混合物在真空或氣氛保護環境下均勻地混燒而設計的，其Z高溫度可達1500℃。
1100℃高壓氫氣管式爐OTF-1200X-60HG 參考價：面議
1100℃高壓氫氣管式爐OTF-1200X-60HG是專為在氫氣條件下處理樣品而設計的，Z高溫度可達1100℃，采用可編程的30段精密溫度控制器。本機爐管采用無...
帶3路浮子混氣RTP管式爐RTP-1000-LV3F 參考價：面議
帶3路浮子混氣RTP管式爐RTP-1000-LV3F是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3″ ）的退火而設計，配有3路流量計和機械泵。本機采用 9K...
1100℃多工位管式爐GSL-1100X-S 參考價：面議
1100℃多工位管式爐GSL-1100X-S是小口徑管式爐，專為制備小型樣品而設計Z高溫度可達1100℃。爐體可垂直或水平放置，以滿足不同的應用，如樣品加熱、V...
1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT 參考價：面議
1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進行加熱，Z高溫度可以達到1700℃，專門針對于材料在真空或氣氛保護環境下的燒結。溫控系統采用PI...
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X 參考價：面議
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X采用高純石英管，外徑規格有6″、8″、8.5″、11″可選，并配有不銹鋼法蘭，可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作，主要用于...
1200℃開啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-II 參考價：面議
1200℃開啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-IIZ高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長...
1200℃ 單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL 參考價：面議
1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對滑軌，可手動進行爐體移動，Z高工作溫度達1200°C，加熱和冷卻速率在真空或者...
1100℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）GSL-1100X-III-D11-8 參考價：面議
1100℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）GSL-1100X-III-D11-8外爐管直徑達到11″，內管直徑8.5″，在加熱管一端裝有一對高真空不銹鋼法蘭，法蘭...
1200℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）OTF-1200X-III-D5-4 參考價：面議
1200℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）OTF-1200X-III-D5-4Z高工作溫度可以達到1200℃，專門針對于用CVD方法在金屬箔上生長薄膜物質，如石墨...
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