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無掩膜直寫光刻設(shè)備擁有跨尺度納米級三維加工能力

閱讀：754 發(fā)布時間：2024-12-7

無掩膜激光直寫光刻機(jī)‌是一種利用激光直接在光刻膠上曝光制作所需圖案的設(shè)備，其適用于實(shí)驗(yàn)室和科研機(jī)構(gòu)，能夠進(jìn)行微納尺度的光刻加工。應(yīng)用：

電子/半導(dǎo)體器件

微/納電機(jī)系統(tǒng)

自旋電子學(xué)

傳感器

微流控

材料科學(xué)

生物實(shí)驗(yàn)室芯片

光子學(xué)

主要特點(diǎn)：

適用于大規(guī)模生產(chǎn)和工業(yè)級應(yīng)用

從納米級到十微米多種加工模式，實(shí)現(xiàn)更高的加工精度與速度

加工圖案預(yù)覽功能和對準(zhǔn)誤差補(bǔ)償

加工面自動平整和自動聚焦，保證加工一致性

全自動化的可視控制系統(tǒng)與圖形化編程語言的應(yīng)用，顯著提升設(shè)備調(diào)控的靈活性與自主性

更高的對準(zhǔn)、拼接和套刻精度

長時穩(wěn)定性控制系統(tǒng)，保證加工穩(wěn)定性余一致性

更大的加工區(qū)域，適用不同尺寸基材，提供自動化樣品吸盤夾具

跨尺度納米級三維加工能力，魔技納米深入生物醫(yī)藥、維納光學(xué)、光電通信、新材料、防偽等多領(lǐng)域，結(jié)婚自研設(shè)備，摸索并形成面向多個行業(yè)應(yīng)用的成熟的加工工藝。

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