目錄:北京格微儀器有限公司>>高真空離子濺射>> GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,冶金,綜合 |
●可制備各種金屬、單質(zhì)、無機(jī)非金屬薄膜；
●不破真空情況下，可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備；
●一鍵操作，全自動(dòng)控制，智能化程度高；
●一致性、重復(fù)性好；
●內(nèi)置多重靶材工作參數(shù)，無需摸索鍍膜工藝；
●體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，非常節(jié)約空間。
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù)：
外形尺寸（主機(jī)） | 424(L)×345(D)×420(H) | 輸入電源 | 220V/50Hz 1000W |
濺射靶頭 1 | 直流磁控濺射 | 可用靶材 | 金屬靶材 |
濺射靶頭 2 | 射頻磁控濺射 | 可用靶材 | 無機(jī)非金屬靶材 |
真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵+旋片式真空泵 | 抽速 | 90L/s + 1.1L/s |
真空測量 | 復(fù)合式真空規(guī) | 量程范圍 | 1E-3 ~ 1E5Pa |
真空室 | φ 200×130mm 高硼硅玻璃 | 抽氣節(jié)拍 | 10 分鐘（≤5E-3Pa） |
樣品臺(tái)尺寸 | φ 90mm | 樣品臺(tái)切換 | 自動(dòng)控制 |
濺射靶材尺寸 | φ 57mm（厚度 0.1-2mm） | 工作真空 | 0.1-2Pa |
操作界面 | 7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 | 操作語言 | 中文（可選其它語言） |
冷水機(jī) | 小型臺(tái)式制冷機(jī) | 冷水機(jī)功率 | 180W |
預(yù)濺射擋板 | 標(biāo)配全自動(dòng)控制預(yù)濺射擋板 | ||
膜厚儀（選配） | 可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過設(shè)定來控制鍍膜過程，測量精度 0.01nm，設(shè)定精度 0.1nm，單次設(shè)定范圍 1-999nm | ||
溫控組件（選配） | 樣品臺(tái)加熱模塊 300℃/500℃ | ||
旋轉(zhuǎn)組件（選配） | 傾斜旋轉(zhuǎn)、行星旋轉(zhuǎn)等 | ||
小車（選配） | 將主機(jī)、射頻電源、冷水機(jī)等組裝在一起，整體性好 | ||
安裝環(huán)境 | 220V/10A 三孔插座一個(gè)、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa） | ||
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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