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IR拋光CZ級(Si)硅窗片 AR/AR增透膜 1.2-15um (30.0X2.0mm  窗口片)

光學級硅通常規定為具有5至40ohm-cm的電阻率，其電阻率比大多數半導體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制，te別是對于TeraHertz應用。通常的材料為CZ(Czochralski級提拉法生成)，其在9μm具有Si-O吸收帶，因此如果在3至5μm光譜帶中使用該窗口，則此性質不重要。 如果需要FZ(Float Zone級材料)，可以提供沒有這種吸收的（FZ）工藝的材料。硅主要用作3至5um波段的光學窗口并用作光學濾波器的制片基底。 具有拋光面的大塊硅也用作物理實驗中的中子靶。硅通過Czochralski提拉法技術（CZ）生長并且包含一些導致9um的吸收帶的氧。 為了避免這種情況，硅可以通過（FZ）工藝制備。 光學硅通常輕摻雜（5~40 Ohm cm），以在10um以上的波段好的透射。 硅具有30至100um的另一通帶，其僅在非常高電阻率的未補償材料中有效。 摻雜通常是硼（p型）和磷（n型）。

IR拋光CZ級(Si)硅窗片 AR/AR增透膜 1.2-15um (30.0X2.0mm  窗口片)

公司簡介

筱曉(上海)光子技術有限公司成立于2014年，是一家被上海市評為高新技術企業和擁有“上海市專精特新企業稱號"的專業光學服務公司，業務涵蓋設備代理以及項目合作研發，公司位于大虹橋商務板塊，擁有接近2000m2的辦公區域，建有500平優良的AOL(Advanced Optical Labs)光學實驗室，為國內外客戶提供專業技術支持服務。公司主要經營光學元件、激光光學測試設備、以及光學系統集成業務。十年來，依托專業、強大的技術支持，以及良好的商務支持團隊，筱曉的業務范圍逐年增長。目前業務覆蓋國內外各*高校、*科研機構及相關領域等諸多企事業單位。筱曉擁有一支核心的管理團隊以及專業的研發實驗室，奠定了我們在設備的拓展應用及自主研發領域堅實的基礎。

公司自成立以來，始終遵循行業、誠信發展、探索創新、務實致遠、以質取勝的服務理念，并在產品開發和銷售中貫徹到底。公司自始至終秉承著國際標準的質量安全保障。多年來，公司一直致力于光學設備的設計開發，以及知識產權的保護。我們將不斷完善管理機制和技術水平，為客戶提供更安全環保的產品以及更優質的服務。