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產品簡介
Filgen鋨等離子鍍膜儀是一種利用直流等離子體放電的負級輝光劉樣晶進行鍍膜的等離子體CVD鍍膜機。傳統的金屬鍍膜設備，主要以重金屬為涂叢材料，如金、鉑、鈀等。采用這些方法，涂層本身的粒度問題無論如何都是不可避免的。同時，在高倍鏡下規察，這些方法所包覆的試樣無法避免SEM強電子東照射引起的充電.熱損傷和污染，導致SEM圖像分辨率較低。
詳細介紹
Filgen鋨等離子鍍膜儀是一種利用直流等離子體放電的負級輝光劉樣晶進行鍍膜的等離子體CVD鍍膜機。傳統的金屬鍍膜設備，主要以重金屬為涂叢材料，如金、鉑、鈀等。采用這些方法，涂層本身的粒度問題無論如何都是不可避免的。同時，在高倍鏡下規察，這些方法所包覆的試樣無法避免SEM強電子東照射引起的充電.熱損傷和污染，導致SEM圖像分辨率較低。
Filgen鋨等離子鍍膜儀優點：
鋨薄膜
無晶粒:形成非晶態金屬鍍層
無熱損傷:涂層在室溫下進行。
無電子束損傷:鋨的熔化溫度為2700C
無污染:涂層從真空狀態開始
等離子聚合薄膜
保膜耐FIB中使用的鎵離子束
耐熱絕緣薄膜
無晶粒形成非晶態金屬鍍層
無熱損傷:涂員在室溫下進行
無電子束損傷
無污染：涂層從真空狀態開始
可用性
自動:設置完成后，按下開始按餓即可完成整個過程
直觀:涂層厚度是由厚度設置控制，而不是由放電時間鍍膜時間短:幾納米/幾秒
易更換操作系統：安瓿可拆卸儲液罐，觀察窗(用于檢查剩余操作系統數量)和儲液罐內置安瓿切斷器
安全性
全自動減少人為失誤的機會
Os儲層的安全特性:氣口-體鎖緊銷和內置安瓿切斷器
帶反應室的聯鎖系統:除非0s04耗盡，否則不能打開反應室，當反應室打開時不能引入Os04
故障安全，以防止操作系統泄漏在電源關閉
鋨吸收過濾器：不需要任何機器
