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場發射掃描電子顯微鏡的分辨率要高于光學顯微鏡的分辨率
閱讀：754 發布時間：2022-6-13
場發射掃描電子顯微鏡利用電子成像，類似于光學顯微鏡使用可見光成像。由于電子的波長遠小于光的波長，所以電子顯微鏡的分辨率要高于光學顯微鏡的分辨率。它是用細聚焦的電子束轟擊樣品表面，通過電子與樣品相互作用產生的二次電子、背散射電子等對樣品表面或斷口形貌進行觀察和分析。SEM已廣泛應用于材料、冶金、礦物、生物學領域。
通常人眼能夠分辨的最小距離為0.2MM，為了觀察分析更微小的細節，人們發明了各種觀察儀器。首先出現的是光學顯微鏡，它利用可見光作為照明束照射樣品，再將照明束與樣品的作用結果由成像放大系統處理，構成適合人眼觀察的放大像。一般而言光學顯微鏡能分辨的最小距離約為200um，是人眼的一千倍。
為突破光學顯微鏡的分辨極限，人們想到用電子束做照明束，并與上個世紀三十年代制造出了第一臺掃描電子顯微鏡。它的分辨率已經達到了原子水平（≈0.1um），比光學顯微鏡提高了近兩千倍。
場發射掃描電子顯微鏡檢測范圍：
1、金屬、陶瓷、高分子、礦物、半導體、紙張、化工產品的顯微形貌觀察及材料的晶體結構、相組織分析；
2、各種材料微區化學成分的定性定量檢測；
3、粉末、微粒、納米樣品形態觀察和粒度測定；
4、機械零件與工業產品的失效分析；
5、鍍層厚度、成分與質量測定；
6、生物、醫學和農業等領域。