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CHSQ-50-III-三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置
  • CHSQ-50-III-三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置
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貨物所在地:上海上海市

地: 上海

更新時(shí)間:2025-03-26 14:53:20

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三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好2.O2氣體濃度檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長(zhǎng),能充分滿足用戶需要。
3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高。

三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。

7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。

8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。

9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確。

10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過預(yù)置值。11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔。

12.滅菌系統(tǒng):紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。

為解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足,本發(fā)明提供了一種校正方便、取樣管道內(nèi)無凝水的細(xì)胞培養(yǎng)箱。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種細(xì)胞培養(yǎng)箱,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱包括培養(yǎng)腔,所述培養(yǎng)腔內(nèi)設(shè)置溫度傳感器、加熱部件;所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
檢測(cè)腔,所述檢測(cè)腔內(nèi)部設(shè)置:
管道,所述管道連通所述培養(yǎng)腔,取樣培養(yǎng)腔內(nèi)的氣體;
DI二管道,所述DI二管道連通所述培養(yǎng)腔,將取樣的氣體送回培養(yǎng)腔內(nèi);
檢測(cè)儀,所述檢測(cè)儀分析通過管道取樣的氣體;
DI二溫度傳感器,所述DI二溫度傳感器檢測(cè)取樣的氣體的溫度;
加熱器,所述加熱器設(shè)置在所述檢測(cè)腔內(nèi)。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,可選地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
隔熱層,所述隔熱層設(shè)置在所述檢測(cè)腔和培養(yǎng)腔之間。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述加熱部件包括加熱片,設(shè)置在培養(yǎng)腔內(nèi)的頂壁、下壁和側(cè)壁。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述溫度傳感器設(shè)置在所述培養(yǎng)腔內(nèi)的上部。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,可選地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
過濾器,所述過濾器設(shè)置在所述管道的入口端。
本發(fā)明的目的還在于提供了上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法,該發(fā)明目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法,所述工作方法包括以下步驟:
(A1)溫度傳感器輸出溫度值A(chǔ);DI二溫度傳感器輸出溫度值B;
(A2)判斷溫度差(B-A)是否處于區(qū)間[ΔT+C,ΔT+D]內(nèi),C、D為常數(shù);ΔT=k•x2+0.013•x+0.05;k=-2×10-8•y2-3×10-6•y+0.0001,x為培養(yǎng)腔中心與頂壁的間距,y為培養(yǎng)腔中心到側(cè)壁的間距;x、y的單位是cm;
如溫度差處于上述區(qū)間內(nèi),無需調(diào)整;
如溫度差不處于上述區(qū)間內(nèi),進(jìn)入下一步驟;


三氣細(xì)胞培養(yǎng)箱低氧恒溫裝置技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

CHSQ-50-III

CHSQ-80-III

CHSQ-100-III

CHSQ-160-III

CHSQ-200-III

顯示屏

5.0寸觸摸屏

公稱容積(L)

50

80

100

160

200

溫度控制范圍(℃)

Rt+3-60℃

溫度波動(dòng)度(℃)

±0.2(@37)

溫度均勻性(℃)

±0.3(@37)

C02濃度控制范圍(VOL%)

0-20

C02濃度控制誤差(%)

±0.1

02濃度控制范圍(VOL%)

1-95

02濃度控制誤差(%)

±0.3

 

 

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