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| 純度 | 95% | 供貨周期 | 現(xiàn)貨 |
|---|---|---|---|
| 規(guī)格 | mg | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè) |
| 主要用途 | 科研用 |
開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm
靜電紡絲技術是目前制備納米纖維重要的基本方法。這一技術的核心是使帶電荷的高分子溶液或熔體在靜電場中流動并發(fā)生形變,然后經溶劑蒸發(fā)或熔體冷卻而固化，于是得到纖維狀物質，這一過程簡稱電紡。
開放式孔構薄膜PLGA納米纖維200nm
（厚度：200/500）um或1cm
目的探討和比較應用不同參數(shù)靜電紡絲技術制備復合型聚乳酸一羥基乙酸[poly(1actic-co-glycolicacid),PLGA]納米纖維緩釋膜片的可行性,檢測其表面特性以及生物相容性。
靜電紡絲聚已內酯纖維薄膜-大孔
多孔PCL聚已內酯聚合物納米纖維膜
孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架
多孔PCL納米纖維膜
介孔聚已內酯纖維薄膜
多孔薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：100/200/500）um或1cm
多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm
PCL納米纖維網格膜片150nm（厚度：600um）
PCL納米纖維網格膜片300nm（厚度：1000um）
PCL納米纖維薄膜網格膜片150nm（網格空隙：200um）
CL納米纖維薄膜網格膜片300nm（網格空隙：400um）
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