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產(chǎn)品簡介
BMF nanoArch® P150是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
詳細(xì)介紹
BMF nanoArch® P150 系統(tǒng)簡介
nanoArch P150是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前有前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
nanoArch® P150是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
BMF nanoArch® P150 系統(tǒng)性能：
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學(xué)精度 25μm |
| XY打印精度 50~200μm | 打印層厚 10~50μm | 打印樣品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
| 打印文件格式 STL（單材） | 系統(tǒng)外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
| 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設(shè)備功率 2000W |
打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
個(gè)性化
高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
系統(tǒng)特點(diǎn)
*的供料系統(tǒng)和涂層技術(shù)
具有高精度微尺度多材料的打印能力
微尺度大幅面的打印能力
光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，自動(dòng)對焦功能
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化
應(yīng)用案例
