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| 應用領域 | 綜合 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
高分辨率校準標樣:綜述
Applied Nanotools為高分辨率應用提供X射線，EUV和可見光顯微鏡的校準標準。 這些高質量的光學元件包括各種校準元件，可在以下SEM圖像中看到：
ANT Design
ANT校準標準設計用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的高分辨率要求。適用于軟X射線和硬X射線機制以及光學設置。
Nested Ls
嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量，保證間距和效率。在高分辨率標準下低至15 nm半間距。
Siemen star
該圖案允許校準和準確比較X射線與其他成像方法的光學分辨率。
NanoUSAF 1951
Applied Nanotool的定制設計NanoUSAF 1951基于USAF 1951設計，但具有納米而非微米的特征校準標樣價格列表
| Device | Base Price |
| Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au) (15 nm half pitch) | USD $5000 |
| Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au) (20 nm half pitch or better) | USD $4500 |
| Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au) (25 nm half-pitch or better) | USD $6000 |
| Features Include: • Nested L’s • Siemen star patterns (large and small) • Varying pitch gratings and meshe • Nano USAF 1951 | |
| Customization | Extra Fee |
| • Custom Logo (Max 50 µm 2 area) | $1000 |
| • Low stress 50 nm silicon nitride membrane | $2000 |
| • Low stress 100 nm silicon carbide membrane | $2500 |
| • Fused Silica Substrate (~500 um thick) Chrome metal on glass (positive tone-only) | $2500 |
Negative polarity (features transparent) • 30 nm minimum feature size (soft X-ray) • 50 nm minimum feature size (hard X-ray) | $1250 |
| • Custom chip sizes | Contact us |
定制膜/基材
校準標準在標準的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學顯微鏡。
校準標準在標準的5 mm x 5 mm框架上于堅固的低應力氮化硅膜上制造。
熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學顯微鏡定制設計
定制設計可添加具有高分辨率功能的設施徽標（建議小元件尺寸為50 nm）。 必須以GDSII，EPS或矢量格式提供圖形以獲得佳分辨率。如果您需要有關徽標提交的幫助，請與我們聯(lián)系。
高分辨率ANT徽標，20納米特征，電鍍至200納米總體布局
注：終設計可能不*如圖所示。其他推薦產(chǎn)品
更多產(chǎn)品-
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