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上海攸亦光電科技有限公司
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當前位置:上海攸亦光電科技有限公司>>光學元件>> Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器

Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌Eksma

廠商性質代理商

所  在  地上海市

更新時間:2021-03-17 09:00:51瀏覽次數:1203次

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價格區間 面議 應用領域 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合
組件類別 光學元件
Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器
Femtoline寬帶激光分束器,鍍膜波長為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器


Eksma FEMTOLINE寬帶激光擴束器

Femtoline寬帶激光分束器,鍍膜波長為720-880 nm或750-850 nm。激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

產品介紹

Ø在720-880 nm或750-850 nm鍍膜

Ø專為S或P偏振而設計

Ø激光損傷閾值:> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。

標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請從Precision Thin Round Windows中選擇。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

產品型號

波長范圍-720-880 nm,設計用于S偏振

型號

材料

尺寸

波長

反射

透射

偏振

AOI

042-7708SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

8±1 %

92±1 %

S-pol

45°

042-7720SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

20±5 %

80±5 %

S-pol

45°

042-7730SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

30±5 %

70±5 %

S-pol

45°

042-7740SB

UVFS

Ø25.4x3 mm

720-880 nm

40±5 %

60±5 %

S-pol

45°

042-7750SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

50±5 %

50±5 %

S-pol

45°

042-7760SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

60±5 %

40±5 %

S-pol

45°

042-7770SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

70±5 %

30±5 %

S-pol

45°

042-7780SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

80±5 %

20±5 %

S-pol

45°

042-7790SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

90±3 %

10±3 %

S-pol

45°

042-7795SB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

720-880 nm

95±2 %

5±2 %

S-pol

45°

045-7708SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

8±1 %

92±1 %

S-pol

45°

045-7720SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

20±5 %

80±5 %

S-pol

45°

045-7730SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

30±5 %

70±5 %

S-pol

45°

045-7740SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

40±5 %

60±5 %

S-pol

45°

045-7750SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

50±5 %

50±5 %

S-pol

45°

045-7760SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

60±5 %

40±5 %

S-pol

45°

045-7770SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

70±5 %

30±5 %

S-pol

45°

045-7780SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

80±5 %

20±5 %

S-pol

45°

045-7790SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

90±3 %

10±3 %

S-pol

45°

045-7795SB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

720-880 nm

95±2 %

5±2 %

S-pol

45°

波長范圍-750-850 nm,設計用于P偏振

型號

材料

尺寸

波長

反射

透射

偏振

AOI

042-7710PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

10±2 %

90±2 %

P-pol

45°

042-7720PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

20±5 %

80±5 %

P-pol

45°

042-7725PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

25±5 %

75±5 %

P-pol

45°

042-7730PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

30±5 %

70±5 %

P-pol

45°

042-7740PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

40±5 %

60±5 %

P-pol

45°

042-7750PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

50±5 %

50±5 %

P-pol

45°

042-7760PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

60±5 %

40±5 %

P-pol

45°

042-7770PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

70±5 %

30±5 %

P-pol

45°

042-7775PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

75±5 %

25±5 %

P-pol

45°

042-7780PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

80±5 %

20±5 %

P-pol

45°

042-7785PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

85±3 %

15±3 %

P-pol

45°

042-7790PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

90±3 %

10±3 %

P-pol

45°

042-7795PB

UVFS

Ø25.4 x 3 mm

750-850 nm

95±2 %

5±2 %

P-pol

45°

045-7710PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

10±2 %

90±2 %

P-pol

45°

045-7720PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

20±5 %

80±5 %

P-pol

45°

045-7725PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

25±5 %

75±5 %

P-pol

45°

045-7730PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

30±5 %

70±5 %

P-pol

45°

045-7740PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

40±5 %

60±5 %

P-pol

45°

045-7750PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

50±5 %

50±5 %

P-pol

45°

045-7760PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

60±5 %

40±5 %

P-pol

45°

045-7770PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

70±5 %

30±5 %

P-pol

45°

045-7775PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

75±5 %

25±3 %

P-pol

45°

045-7780PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

80±5 %

20±5 %

P-pol

45°

045-7785PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

85±3 %

15±3 %

P-pol

45°

045-7790PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

90±3 %

10±3 %

P-pol

45°

045-7795PB

UVFS

Ø50.8 x 6 mm

750-850 nm

95±2 %

5±2 %

P-pol

45°

 

基材

材料

紫外級熔融石英

S1表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S2表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

平行性

30弧秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術

電子束多層電介質

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

入射角

45±3°

背面防反射鍍膜

R <0.5%

激光損傷閾值

> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

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