定制納米壓印模具 參考價：面議
客戶定制納米壓印模具可根據客戶需求，定制納米壓印原始模具。根據結構尺寸和形貌，納米壓印原始模具的加工方法有電子束直寫、激光直寫、光刻、刻蝕、電鍍、機加工等。
納米壓印膠 參考價：面議
針對納米壓印膠需求，天仁微納可以為客戶推薦、對接國內外多種壓印膠廠商，并提供工藝咨詢服務。
150mm&300mm 全自動納米壓印光刻預處理設備 參考價：面議
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自動納米壓印光刻預處理設備，Cassette to cassette機械手自動...
納米壓印技術咨詢 參考價：面議
天仁微納技術團隊具有20多年的納米壓印及配套的半導體加工經驗，可以為客戶提供各種納米壓印技術咨詢服務。
納米壓印工藝開發 參考價：面議
天仁微納可以根據客戶的產品需求，提供納米壓印工藝開發服務。配套天仁微納的設備及材料，為客戶提供全套解決方案。
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理 參考價：面議
天仁微納自主研發、生產及銷售GL-ASL納米壓印抗粘處理，用來減少子模具復制材料和原始模具的粘度，有利于脫模，增加對原始模具的保護。
Primer納米壓印增粘劑 參考價：面議
天仁微納自主研發、生產及銷售Primer納米壓印增粘劑，用來增加納米壓印膠和基底的粘度，提高產品質量和良率。
工作模具/子模具復制材料 參考價：面議
工作模具/子模具復制材料優點：結構保型性好，精度遠遠優于傳統PDMS材料，可達50納米以下精度，使用壽命長。
拼版復制模具 參考價：面議
拼版復制模具通過拼版技術，將原始模具上的結構多次復制到玻璃復制模具上，進行納米壓印量產。可以節省原始模具的加工面積，降低原始模具的加工成本和周期。
復制模具 參考價：面議
復制模具通過特殊工藝，將原始模具上的結構1:1復制到玻璃復制的模具上，進行納米壓印量產。可增加原始模具使用壽命，降低制作原始模具成本。
標準壓印模具 參考價：面議
標準壓印模具天仁微納還提供一些帶有納米孔、納米柱、納米線條等標準結構的標準模具。如有需求，請聯系我們咨詢。
UniHotplate桌面型熱板 參考價：面議
UniHotplate桌面型熱板是一種桌面型熱板，可烘烤8英寸或者6寸方片。溫度設定20℃~250℃。
UniCoater桌面型旋涂勻膠設備 參考價：面議
UniCoater桌面型旋涂勻膠設備是一種桌面型旋涂勻膠設備。可旋涂8英寸或者6英寸方片。
GL MegaClean單片式兆聲波清洗設備 參考價：面議
GL MegaClean單片式兆聲波清洗設備基材尺寸大300mm直徑以下圓片清洗；單片掃描式毛刷清洗、二流體清洗、兆聲波清洗。
GL Plasma等離子體清洗設備 參考價：面議
? GL Plasma等離子體清洗設備數適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）。
GL Spin+HP旋涂勻膠設備+熱板 參考價：面議
GL Spin+HP旋涂勻膠設備+熱板適用于大300mm直徑以下圓片或者9英寸方片旋涂勻膠與烘烤工藝。
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備 參考價：面議
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優于20納米的三維結構，還可以用于將小面...
GL4 R D研發型納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL4 R D研發型納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，功能強大的多功能研發型納米壓印光刻設備。通過簡單的夾具更換，可以實現旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備是一種專門為晶圓級光學加工（WLO-Wafer Level Optics）開發的全幅紫外納米壓印設備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
GL300 Cluster納米壓印光刻生產線 參考價：面議
GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產線是模塊化的全自動納米壓印生產線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微...
UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備 參考價：面議
UniPrinter研發型Desktop納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。可實現4英寸...
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設備產能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、...
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產品的研發和量產。
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