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蒸發鍍膜儀是微納結構制備中*的工藝設備
閱讀：311 發布時間：2021-4-28
蒸發鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質，使之升華，蒸發粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態薄膜，或加熱蒸發鍍膜材料的真空鍍膜方法。
物理過程由物料蒸發輸運到基片沉積成膜，其物理過程為：采用幾種能源方式轉換成熱能，加熱鍍料使之蒸發或升華，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態粒子(原子、分子或原子團)；離開鍍料表面，具有相當運動速度的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；到達基體表面的氣態粒子凝聚形核生長成固相薄膜；組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合
蒸發鍍膜儀將蒸發材料放在坩堝內，坩堝放置在高真空腔體中，通過高壓燈絲發射電子，電子通過磁場偏轉轟擊到坩堝內的蒸鍍材料表面，對蒸鍍材料進行加熱，電子束蒸發源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發，實現蒸發鍍膜。根據不同材料的性質分為固態升華和液態蒸發，整個蒸發過程是物理過程，實現物質從源到薄膜的轉移。裝有蒸發材料的坩堝周圍有冷卻系統，避免坩堝內壁與蒸發材料發生反應影響薄膜質量。通過調節電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發速率，特別適用于高熔點以及高純金屬材料，通過膜厚測量系統可實時精確測量蒸發速率和薄膜厚度。該設備可制備高純薄膜，是微納結構制備中*的工藝設備。