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我司銷售的臺式摩擦機（HO-IAD-BTR-01）
閱讀：71 發布時間：2024-12-17摩擦機是為液晶研發實驗室開發的。該系統用于在聚酰亞胺上刻畫溝槽，以確定液晶分子的方向。凹槽是用一種深度為幾埃特的特殊摩擦布制成的。基片由真空吸盤固定，真空吸盤包括真空泵，并與系統集成。可裝載的最大玻璃基片尺寸為 100 毫米 x 100 毫米。基片和真空吸盤被固定在一個旋轉臺上，因此可以在 0 到 180 度之間的任意角度進行旋轉和定位，以獲得不同的摩擦方向。
該系統是作為一個獨立單元開發的，可改變輥筒的速度和基片的速度。
可編程功能
基底的運動范圍
移動速度（基底平臺）
重復次數/操作持續時間
規格
基片支架
a) 用于基底移動的電動線性平臺
b) 由步進電機驅動
c) 行程：80 毫米
d) 低速度：0.05 毫米/秒
最高速度：9 毫米/秒
e) 可移動基板的最大尺寸：100 毫米 x 100 毫米
f) 基板固定在旋轉臺上，可旋轉 +/- 45 度
摩擦輪傳動裝置：帶速度控制的無刷直流電機
高轉速：3000 rpm
低轉速：0 rpm
LCD 屏幕顯示速度
通過旋鈕控制主軸轉速
輸入：230 VAC
系統可獨立使用
基底保持：真空（含真空泵）
真空泵類型 ： 無油
摩擦布：絨布（不包括在內）