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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇
詳細(xì)介紹
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。（大加工率：硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
Hitachi日立高新離子研磨裝置IM4000?特點(diǎn)
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間(大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)
可拆卸式樣品臺(tái)：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型
規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 描述 | |
| 斷面加工臺(tái) | 平面研磨臺(tái) | |
| 氣源 | 氬氣(Ar) | |
| 加速電壓 | 0-6Kv | |
| 大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)） | 約300μm/h﹡¹﹡² | 約20μm/h﹡³（點(diǎn)） 約2μm/h﹡?（面） |
| 大樣品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋轉(zhuǎn)角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 擺動(dòng)角度 | ±15°，±30°，±40° | ±60°，±90° |
| 傾斜 | - | 0-90° |
| 氣體流量控制系統(tǒng) | 流量調(diào)節(jié)器 | |
| 排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí)，135L/min,60Hz時(shí)，162L/min) | |
| 儀器外觀尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 儀器重量 | 主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg | |
| 可選附件 | 光學(xué)顯微鏡（用于觀測(cè)研磨中的樣品） | |
﹡¹：此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的大深度值 ﹡²：此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm
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