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一、概述
IRE-200是一款超高精度的外延層厚度測量設備，利用紅外光譜經傅里葉變換進行快速分析，主要應用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。
■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持；
■ 自定義mapping功能；
■ 高檢測速率：Si標準外延片測量25點≤3min；
■ 高檢測精度：≤0.01um 。
二、產品特點
1）設備采用高性能光源模塊，光源穩定性好，信噪比高，覆蓋范圍7800-350cm-1。
2）搭配自主研發算法軟件，可精準快速地獲取測量結果。
3) 搭配自主研發的mapping運動臺，定位精準、測量速度快。
三、產品應用
IRE-200廣泛應用于半導體行業中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延層厚度的量測。
SiC EPI量測案例
技術參數
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