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光學薄膜測厚儀
  • 光學薄膜測厚儀
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貨物所在地:湖北武漢市

地: 武漢市東湖高新區華工科技園創智

更新時間:2024-11-22 21:00:35

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IRE-200膜厚測試儀是一款超高精度的外延層厚度測量設備,利用紅外光譜經傅里葉變換進行快速分析,主要應用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。

一、概述

IRE-200膜厚測試儀是一款超高精度的外延層厚度測量設備,利用紅外光譜經傅里葉變換進行快速分析,主要應用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。

單拋/雙拋等多種模式選擇支持;

自定義mapping功能;

高檢測速率:Si標準外延片測量25點≤3min;

高檢測精度:≤0.01um。

二、產品特點

1、IRE-200膜厚測試儀采用高性能光源模塊,光源穩定性好,信噪比高,覆蓋范圍7800-350cm-1。

3、搭配自主研發的mapping運動臺,定位精準、測量速度快。

IRE-200膜厚測試儀6.png

 

三、產品應用

IRE-200廣泛應用于半導體行業中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延層厚度的量測。

SiC EPI量測案例

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