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thermo近紅外加熱裝置的特點(diǎn)

閱讀：879 發(fā)布時(shí)間：2024-3-29

thermo近紅外加熱裝置的特點(diǎn)

它可以僅對(duì)置于超高真空或氣流等各種氣氛中的樣品照射精確的紅外線，并以非接觸方式快速加熱樣品。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)和分析設(shè)備。
這是Thermo Riko的主要型號(hào)。

	升溫快	：最大升溫速率150℃/秒，約1分鐘升至1500℃
	清潔供暖	：不用擔(dān)心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生氣體
	局部供暖	：僅向樣品照射紅外線，不加熱周圍區(qū)域
	可自由連接	：可安裝在各種真空系統(tǒng)中（ICF70）

	Si、SiC、石墨烯等樣品的快速加熱和退火
	氧化氣氛中氧化物晶體的生成和薄膜的形成
	在氫氣或氮?dú)庵屑訜峄?/span>
	X 射線或 UV 照射期間樣品溫度升高
	熱解吸氣體分析儀、XPS、XRD、PLD 等分析儀中樣品的加熱。
	磁場(chǎng)加熱、無磁場(chǎng)加熱
	在加壓氣氛下加熱
	通過向樣品施加負(fù)載來加熱

　　　紅外線感應(yīng)加熱設(shè)備根據(jù)應(yīng)用有以下規(guī)格。

超高真空型	兼容10 -9 Pa超高真空。
快速加熱型	可高速加熱，最大加熱速度可達(dá)150℃/秒。
常壓加熱型	可以對(duì)放置在大氣中的樣品進(jìn)行點(diǎn)加熱。
加壓氣氛型	可以加熱低于 10 個(gè)大氣壓的加壓室中的樣品。
特殊規(guī)格	利用GV系列的特點(diǎn)，可以滿足快速冷卻、負(fù)載加熱、磁場(chǎng)加熱等各種要求。　請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。
符合 CE 標(biāo)志	我們還生產(chǎn)符合 CE 標(biāo)志的產(chǎn)品。

原理圖

　超高真空型GVH

型號(hào)名稱	GVH198	GVH298
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
達(dá)到最高溫度	1200℃	1400℃
加熱面積	φ20mm
最大升溫速率	1℃/秒
最大真空度	5×10 -9帕
冷卻水量	1升/分鐘	2升/分鐘

　快速加熱型GV/GVL

型號(hào)名稱	GV154	GV198	GVL298	GVL398
紅外燈額定值	500W	1千瓦	2千瓦	3千瓦
達(dá)到最高溫度	1100℃	1300℃	1500℃	1600℃
加熱面積	φ14mm	φ20mm
最大升溫速率	100℃/秒	100～150℃/秒
最大真空度	5× 10-7帕
冷卻水量	1升/分鐘		2升/分鐘

　加壓氣氛型GVP

型號(hào)名稱	GVP198	GVP298
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
達(dá)到最高溫度	1200℃	1300℃
加熱面積	φ20mm
最大升溫速率	100℃/秒
最大耐壓	1MPa以下
冷卻水量	1升/分鐘	2升/分鐘

它由紅外引入主體、多口真空室、溫度控制器等組成，能夠在高真空下對(duì)樣品進(jìn)行超高速加熱。
它有許多真空口，可用于多種實(shí)驗(yàn)。

通過打開和關(guān)閉真空室前門即可取出和取出樣品。

[應(yīng)用]
- 真空和氣體環(huán)境中樣品的連續(xù)加熱和冷卻控制
- 樣品表面加熱和背面冷卻的快速升降溫測(cè)試（可選）
- 加壓氣氛中加熱（可選）

型號(hào)名稱	GV1	GV2
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
達(dá)到最高溫度	1300℃	1500℃
加熱面積	～φ20mm
最大升溫速率	100～150℃/秒
最大真空度	5× 10-5帕
冷卻水量	1升/分鐘	2升/分鐘

它由紅外線導(dǎo)入加熱裝置、小型真空室、測(cè)溫樣品部、溫度控制器等組成。

通過從底部用紅外線照射真空室內(nèi)的樣品，可以清潔地加熱樣品并以超高速升高溫度。
您可以在樣品加熱時(shí)從腔室頂部的觀察窗觀察樣品并拍照。

型號(hào)名稱	RTA198	RTA298
紅外燈額定值	1千瓦	2千瓦
達(dá)到最高溫度	900～1000℃	1000～1300℃
加熱面積	～φ20mm
最大真空度	5×10 -3帕	5× 10-5帕
冷卻水量	1升/分鐘	2升/分鐘

它由超高真空紅外感應(yīng)加熱裝置、超高真空室、質(zhì)譜儀、電源/安全電路單元、真空排氣裝置組成，能夠?qū)悠樊a(chǎn)生的痕量氣體進(jìn)行質(zhì)譜分析達(dá)到高溫。

紅外感應(yīng)加熱設(shè)備的熱源位于真空室外，不產(chǎn)生氣體，可以進(jìn)行清潔加熱，可以進(jìn)行高精度分析。

型號(hào)名稱	病毒2H
紅外燈額定值	2千瓦
達(dá)到最高溫度	1500℃
加熱面積	φ15mm
最大真空度	5× 10-6帕
交貨目的地	京都大學(xué)

介紹三種非常適合在磁場(chǎng)中對(duì)樣品進(jìn)行熱處理的模型。
【特點(diǎn)】
- 由于采用紅外線傳輸加熱方式，樣品不受電磁感應(yīng)影響
- 只能對(duì)樣品進(jìn)行精準(zhǔn)加熱，磁體壁不被加熱。

也可以在真空或氣體氣氛中升高溫度。
可貼附于超導(dǎo)磁體及各種電磁鐵上。

當(dāng)樣品溫度為1000℃時(shí)，孔內(nèi)壁溫度低于40℃。

在高真空中進(jìn)行 X 射線照射時(shí)，樣品被加熱至超高溫度。
（紅外線從左上對(duì)角方向和右下對(duì)角方向照射，X射線從左側(cè)和水平方向照射。）

真空室安裝在XY工作臺(tái)、旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)和旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上，可以在加熱、保持或冷卻樣品的同時(shí)從任何角度分析樣品的晶體結(jié)構(gòu)。

型號(hào)名稱	GVL298-2S
紅外燈額定值	2kW×2
達(dá)到最高溫度	1500℃
加熱面積	φ20mm
最大真空度	5× 10-4帕

　送貨目的地：Spring-8

紅外感應(yīng)加熱裝置與各種分析裝置結(jié)合使用。
左圖是X射線光電子能譜儀。

這是將 GVL298 類型安裝到 XPS 的示例。
通過紅外線照射對(duì)預(yù)真空室內(nèi)的樣品進(jìn)行加熱，除去樣品中所含的水分和氣體并進(jìn)行清潔。
樣品在超高真空中通過傳輸桿移動(dòng)到照片右側(cè)的XPS分析室，在那里接受X射線照射并進(jìn)行表面分析。

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