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美國kimball physics EGH-6210電子槍系統
美國kimball physics EMG-4193電子槍系統
美國kimball physics EGPS-1011電子槍系統
美國 LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空 LK1000M
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LK1000M電子槍 有出色能量分辨率的電子源，針對高輸出電流進行了優化 應用于逆UPS，EELS等電子碰撞實驗。
低于10 meV的能量分辨率可通過能量調節
在20 meV能量分辨率下，典型輸出電流> 10 nA
單通道雙聚焦單色器，具有空間電荷優化功能
5元素變焦鏡頭/轉移鏡頭，適用于長工作距離
整體磁屏蔽
AES EA5000MCA EELS ELS ELS5000 High Resolution Electron Energy Loss Spectroscopy HREELS LEED LEED系統 LK1000M LK2000 lktech LK technologies LK Technology MINICMA NGI3000 RVL2000光譜儀 低能電子衍射 低能電子衍射儀 低能電子衍射系統 俄歇電子 俄歇電子能譜AES 俄歇電子能譜儀 多探針分析系統 熱解吸光譜 特高壓系統 特高壓表面科學系統 電子發生器 電子槍 電子源 電子碰撞實驗 電子能譜儀 電子能量損失譜 電子能量損失譜儀 離子泵 離子源 精密UHV室 精密樣品操縱 能量損失譜儀 表面結構與表面分析 超高真孔表面分析系統 超高真空表面分析系統 輔助泵 高分辨電子能量損失譜 高分辨電子能量損失譜儀
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